[发明专利]隔垫物及其制备方法、液晶面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201210581499.0 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN102998853A 公开(公告)日: 2013-03-27
发明(设计)人: 王新星;柳在健 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 隔垫物 及其 制备 方法 液晶面板 显示装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,特别是涉及一种隔垫物及其制备方法、液晶面板及显示装置。

背景技术

隔垫物是液晶面板重要的组成零件,通过隔垫物可以形成液晶区域,使各个液晶区域之间独立、互不影响,这样可以提高显示效果,但同时隔垫物也带来了一些负面的影响,由于隔垫物支撑在形成液晶面板的上基板与下基板之间,支点处承载着应力,这一应力会导致基板的变形,会使显示出现残缺。

图1示出了现有技术中的一种隔垫物的结构示意图,图1a是图1中隔垫物的形状图示,图1b是图1中隔垫物横截面上的应力分布示意图。图中所示隔垫物1为柱状隔垫物,其尺寸比较大,其各个位置横截面的面积相同,该种隔垫物1与液晶面板的上基板和图示中的下基板2的接触面积较大,这样会导致应力集中分布,在整个接触的面积内都有相同的应力,如图1b所示的直线式的应力分布曲线3,这样就产生了大面积的集中受力,容易引起液晶面板的显示缺陷等技术问题。

基于上述大尺寸隔垫物所存在的缺陷,本领域技术人员采取了一种改进措施,通过减小隔垫物与上、下基板的接触面积,同时增加上、下基板间的隔垫物个数,对应力进行分散,这样可以一定程度上分散应力,如图2、图2a和图2b所示,小尺寸的隔垫物也为柱状隔垫物,其各个位置横截面的面积也相同,图1所示大尺寸的隔垫物可以分解为多个图2中所示的小尺寸的隔垫物1,这样可以将各个小尺寸的隔垫物1之间连线,虽然小尺寸的隔垫物1与下基板2接触面积之和与大尺寸的相同,但是应力会产生分散,在连线处的应力会有衰减,如图2b中所示的曲线状的应力分布曲线3,这样可以分散应力,消除液晶面板的显示缺陷。但是,图2中所示的隔垫物1的尺寸较小,通过光刻工艺形成该隔垫物1时要求的精度高,对隔垫物1制作的工艺要求高,并且,隔垫物1与上、下基板间的接触面积小,也容易造成局部应力集中,对液晶面板的显示质量带来不良影响。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何实现隔垫物与上、下基板间的应力分散,且能够避免局部应力集中的现象。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题,本发明提供一种隔垫物,所述隔垫物为柱状,其上、下两端的横截面半径大于其中部的横截面半径。

其中,所述隔垫物的侧壁中部朝向其中心轴线凹陷。

其中,所述隔垫物沿其中心轴线方向各个位置的横截面均为圆形。

本发明还提供了一种隔垫物制备方法,其包括以下过程:

在基板上依次形成隔垫物材料层和光刻胶层,对光刻胶层进行曝光处理,在光刻胶层上形成与隔垫物分布位置相对应的光刻胶图案;

采用湿刻工艺对隔垫物材料层进行刻蚀,在刻蚀过程中通过调节刻蚀液压力实现刻蚀液浓度梯度,形成柱状隔垫物,且隔垫物上、下两端的横截面半径大于其中部的横截面半径。

其中,形成所述光刻胶图案的线条的宽度比所述柱状隔垫物的上端端面的横截面直径大1-3微米。

其中,所述刻蚀液为酸性刻蚀液,刻蚀温度为25-40℃。

本发明还提供了一种液晶面板,其包括上基板、下基板以及至少一个上述的隔垫物,所述隔垫物位于所述上基板和下基板之间。

本发明进一步提供了一种显示装置,其包括上述的液晶面板。

(三)有益效果

上述技术方案所提供的隔垫物及其制备方法、液晶面板及显示装置,通过将隔垫物的上、下两端的横截面半径设置为大于其中部的横截面半径,能够在保证隔垫物与上、下基板之间不易出现应力集中的接触面积的前提下,对应力进行分散,消除液晶面板的显示缺陷,并且隔垫物的该种结构设置易于通过湿刻工艺实现,制备简单。

附图说明

图1是现有技术中一种大尺寸的柱状隔垫物在液晶面板上的分布示意图;

图1a是图1中隔垫物的形状图示;

图1b是图1中隔垫物横截面上的应力分布示意图;

图2是现有技术中一种小尺寸的柱状隔垫物在液晶面板上的分布示意图;

图2a是图2中隔垫物的形状图示;

图2b是图2中隔垫物横截面上的应力分布示意图;

图3是本发明实施例1中隔垫物在液晶面板上的分布示意图;

图3a是图3中隔垫物的形状图示;

图3b是图3中隔垫物横截面上的应力分布示意图;

图4至图9为本发明实施例2中隔垫物的制备过程图。

其中,1:隔垫物;2:下基板;3:应力分布曲线;4:隔垫物材料层;5:光刻胶;6:掩膜版;7:光刻胶图案。

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