[发明专利]一种菲涅尔式太阳能热发电用选择性吸收涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210581812.0 申请日: 2012-12-27
公开(公告)号: CN103032978A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 崔银芳;尹万里;张敏;王轩;孙守建 申请(专利权)人: 北京市太阳能研究所集团有限公司
主分类号: F24J2/48 分类号: F24J2/48;C23C14/34;C23C14/06
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王朋飞;张庆敏
地址: 100012 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 菲涅尔式 太阳能 发电 选择性 吸收 涂层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种菲涅尔式太阳能热发电用选择性吸收涂层,其特征在于,选取不锈钢作为基体材料,所述涂层从基体至表面依次为阻挡层、红外反射层、吸收层、减反层。

2.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述阻挡层是由不锈钢基体经热处理生成的氧化物膜构成,厚度为50~200nm。

3.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述红外反射层由Mo-Ni-SS合金膜构成,其中Mo、Ni、SS的质量百分数比为90%:5%:5%,Mo-Ni-SS合金膜的厚度为50~250nm。

4.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述吸收层包括厚度均为20~100nm的第一亚吸收层和第二亚吸收层;两个亚吸收层均为Ni-SiO2膜;

所述第一亚吸收层Ni体积百分比为30~70%,第二亚吸收层Ni体积百分比为20~40%。

5.根据权利要求1所述的涂层,其特征在于,所述减反层为厚度均为20~60nm的双减反层,依次为第一减反层TiO2和第二减反层SiO2

6.一种权利要求1-5中所述的菲涅尔式太阳能热发电用选择性吸收涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、将不锈钢基体在空气中热处理后在其表面得到氧化物膜作为阻挡层;

步骤2、以Ar气为反应气体,通过Mo-Ni-SS合金靶,采用直流磁控溅射法制备红外反射层Mo-Ni-SS合金膜;

步骤3、以Ar和O2混合气体作为反应气体,通过Ni靶和Si靶,采用直流磁控溅射法制备第一亚吸收层Ni-SiO2薄膜;

调整Ni靶电流,采用中频磁控溅射法制备第二亚吸收层Ni-SiO2薄膜;

步骤4、以Ar和O2混合气体作为反应气体,通过Ni靶,采用直流磁控溅射法制备TiO2减反膜;

通过Si靶,采用直流磁控溅射法,以Ar和O2混合气体作为反应气体,制备SiO2减反膜。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤1中热处理温度为500~700℃,时间为10~30min。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤2中溅射前将真空抽至3×10-3Pa以下,Mo-Ni-SS合金靶的电流为0.5~0.8A,溅射电压为350-450V,溅射气压为1.5~3.5×10-1Pa。

9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤3中制备第一亚吸收层Ni-SiO2薄膜时,溅射前将真空抽至3×10-3Pa以下,Ni靶、Si靶电流分别为0.6~0.8A,0.5~0.8A,溅射电压均为300-400V;

调整Ni靶电流为0.3~0.5A制备第二亚吸收层Ni-SiO2薄膜。

10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤4中制备TiO2减反膜时,溅射前将真空抽至3×10-3Pa以下,Ti靶电流为0.3~0.5A,溅射电压为280-320V,溅射气压为3.5~4.5×10-1Pa;

制备SiO2减反膜时,溅射前将真空抽至3×10-3Pa以下,Ti靶电流为0.4~0.7A,溅射电压为290-350V,溅射气压为3.5~4.5×10-1Pa。

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