[发明专利]一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法及其应用在审
申请号: | 201210586912.2 | 申请日: | 2012-12-28 |
公开(公告)号: | CN103897202A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 刘卫丽;张磊;秦飞;宋志棠 | 申请(专利权)人: | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | C08J3/03 | 分类号: | C08J3/03;C08L25/06;C08K3/22;C09G1/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 201506 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚苯乙烯 氧化 硅核壳型 纳米 复合 磨料 制备 方法 及其 应用 | ||
1.一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,包括如下步骤:
(1)聚苯乙烯纳米颗粒的制备:将苯乙烯单体加入到水中,加入分散剂,搅拌形成均匀的分散液,通入氮气排空保护反应体系,之后加入阳离子引发剂,在60~80℃条件下反应1~24小时即可得到阳离子型聚苯乙烯胶体;
(2)在步骤1制备得到的PS胶体中加入醇,搅拌得到均匀混合的液体,之后加入氨水,其用量为0.3~8wt%;最后加入TEOS;搅拌12~48小时即可得到复合磨料;
(3)由复合磨料制备抛光液:将步骤2所得的复合磨料进行蒸发去除里面的醇,之后加入一定量的水,复合磨料与水的质量比为1~10%,加入氧化剂的量为0.5~5wt%,再加入缓蚀剂0.01~0.1wt%,最后加入螯合剂0.1~1wt%,搅拌即为聚苯乙烯/氧化硅纳米复合磨料抛光液。
2.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤1中,所述的分散剂选自聚乙烯基吡咯酮、聚N-乙烯基吡咯酮中的一种。
3.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中,醇与PS胶体的体积比为5:1~20:1。
4.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中,醇选自甲醇、乙醇、异丙醇中的任一种。
5.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中,氨水为28wt%的水溶液。
6.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤2中,TEOS的量根据所需要的氧化硅壳层厚度而定,一般为0.1~3wt%。
7.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤3中,蒸发的方法为采用旋转蒸发。
8.如权利要求1所述的一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,其特征在于,所述步骤3中,所述的氧化剂为双氧水;所述的缓蚀剂为苯并三唑;所述的螯合剂为甘氨酸。
9.如权利要求1-8任一权利要求所述的聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料在化学机械抛光领域的应用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210586912.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种烧烤调料
- 下一篇:一种香辣八宝菜的生产方法