[发明专利]湿式流动滚磨装置无效

专利信息
申请号: 201210587508.7 申请日: 2012-12-28
公开(公告)号: CN103252703A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 黑木哲也;德升智宏;西岛仁 申请(专利权)人: 新东工业株式会社
主分类号: B24B31/10 分类号: B24B31/10;B24B31/12
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李洋;舒艳君
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 流动 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及湿式流动滚磨装置,该湿式流动滚磨装置在研磨槽中投入被加工物、研磨介质以及水,通过处于该研磨槽内的转盘的旋转而使它们旋转流动从而对被加工物进行研磨。

背景技术

以往,在除氧化皮、去飞边、倒圆、去裂纹、抛光等表面精加工领域采用滚磨。从加工效率的观点来看,滚磨广泛使用湿式流动滚磨装置。湿式流动滚磨装置具备:有底的固定槽;以及在该固定槽的内部的底面上方配置有转盘的研磨槽。首先,将被加工物与具有研磨能力的研磨介质投入到所述研磨槽(将这些总括起来,以后记为“质量块”),并且投入水、以及根据需要投入研磨辅助剂。接下来,使所述转盘旋转。由于通过该转盘的旋转质量块进行流动,因此被加工物与研磨介质接触。由此进行被加工物的研磨。就研磨介质而言,虽然通常使用含有称为介质的磨粒的块状物,但是也存在采用磨粒本身的情况(例如,参照专利文献1)。

利用图1对现有的湿式流动滚磨装置(例如专利文献2)进行说明。湿式流动滚磨装置01具备研磨槽,该研磨槽具备:由侧壁部11及底壁部12构成的固定槽;以及配置于所述底壁部12的上方的转盘13。在所述研磨槽10的底面即底壁部12设置有用于将该研磨槽10内的水排出的开口部(排水口D)。在排水口D的附近设置有形成排水路径的管体P,在该排水路径的途中配置有阀V。在进行研磨时,关闭该阀V而封闭该排水路径。然后,将被加工物、研磨介质、水、根据需要还将抛光剂等投入到研磨槽,使位于所述底壁部12的上方的转盘13旋转规定时间而进行研磨。在旋转规定时间之后使转盘停止,然后将阀V打开使研磨槽10内的水从所述排水口D经由所述排水路径而排出。然后,回收被研磨物。

专利文献1:日本特开2003-103451号公报

专利文献2:日本特开2008-000833号公报

在所述底壁部12与所述转盘13之间形成有空间。在作为研磨介质采用了磨粒的情况下,由于在研磨中利用阀V封闭管体P,因此含有磨粒的水进入到所述排水口D与阀V之间。进入到该空间的水不会呈流动状态。并且,由于所述磨粒的比重大于水所以朝下方下沉。由于该下沉,所述磨粒进入到管体内并在该管体内下沉。结果,磨粒粘着于管体内,排水路径即管体可能被该磨粒封闭。另外,在作为所述阀V采用了闸阀、球阀这样的通常使用的阀的情况下,磨粒啮入到阀V的可动部从而成为造成故障的原因。本发明提供能够可靠地向研磨槽中进行存水以及从该研磨槽中进行排水、并且故障较少的湿式流动滚磨装置。

发明内容

根据第一技术方案的湿式流动滚磨装置,在该湿式流动滚磨装置中投入被加工物、研磨介质以及水来对被加工物进行研磨,所述湿式流动滚磨装置的特征在于具备:固定槽,该固定槽包括:侧壁部,该侧壁部形成该固定槽的侧面;以及底壁部,该底壁部具有用于排出所述水的排水口,且形成该固定槽的底面;封闭机构,该封闭机构具备封闭部件,该封闭部件用于将所述排水口堵塞而封闭该排水口;以及转盘,该转盘配置于所述底壁部的上方,并且以该转盘的轴心为中心水平旋转。由于能够在该排水口附近进行排水口的封闭及敞开,因此该排水口不会因磨粒的下沉而被封闭。另外,能够由简单的结构进行排水口的封闭及敞开。

另外,第二技术方案的湿式流动滚磨装置的特征在于,根据第一技术方案所记载的湿式流动滚磨装置,通过利用压缩空气的压力将所述封闭部件按压于所述排水口而将该排水口封闭。由所述封闭部件的顶端部分堵塞所述排水口,进而利用压缩空气的压力将该封闭部件推压(按压)于该排水口,由此该封闭部件的侧面与该排水口的周缘更加紧贴。即,由于没有间隙,能够完全封闭该排水口。当在滚磨后将该排水口敞开时,可以解除该封闭部件的按压。另外,能够提供与机械式地将所述排水口敞开/封闭的构造相比故障较少的湿式流动滚磨装置。

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