[发明专利]一种激光退火装置及其操作方法在审
申请号: | 201210589265.0 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103894734A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 王成才;鲁武旺;兰艳平;刘国淦 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | B23K26/064 | 分类号: | B23K26/064;B23K26/08;H01L21/26 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 退火 装置 及其 操作方法 | ||
1.一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;从激光器出射的激光,依次经过准直系统、扩束系统、匀光系统后,经分光聚焦系统入射到硅片上;小部分能量经分光后分别入射到能量监测单元和轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。
2.根据权利要求1所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制分光聚焦系统进行步进运动。
3.根据权利要求1所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制一扫描反射镜进行步进运动,所述扫描反射镜位于分光透镜和聚焦透镜之间。
4.根据权利要求3所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制扫描反射镜进行扫描运动,所述工件台单元控制硅片进行步进运动。
5.根据权利要求3所述的激光退火装置,其特征在于所述聚焦透镜为一平场透镜。
6.如权利要求1-5之一所述的激光退火装置的操作方法,其特征在于包括如下步骤:
1) 工件台单元控制硅片运动到初始退火区域位置;
2)开启激光退火设备,工件台单元带动硅片在一个方向做扫描运动;
3)步进单元带动分光聚焦系统沿另一个方向步进到下一个退火区域;
4)重复步骤2)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210589265.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种模具型腔加工支撑装置
- 下一篇:一种英语情景教学用头饰