[发明专利]一种激光退火装置及其操作方法在审

专利信息
申请号: 201210589265.0 申请日: 2012-12-31
公开(公告)号: CN103894734A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 王成才;鲁武旺;兰艳平;刘国淦 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: B23K26/064 分类号: B23K26/064;B23K26/08;H01L21/26
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 退火 装置 及其 操作方法
【权利要求书】:

1.一种激光退火装置,其特征在于,沿光路依次包括:激光器、准直系统、扩束系统、匀光系统、分光聚焦系统、步进单元、工件台单元、能量监测单元以及轮廓监测系统;从激光器出射的激光,依次经过准直系统、扩束系统、匀光系统后,经分光聚焦系统入射到硅片上;小部分能量经分光后分别入射到能量监测单元和轮廓监测系统;其中,所述步进单元控制曝光光斑进行步进运动,所述工件台单元控制硅片进行扫描运动。

2.根据权利要求1所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制分光聚焦系统进行步进运动。

3.根据权利要求1所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制一扫描反射镜进行步进运动,所述扫描反射镜位于分光透镜和聚焦透镜之间。

4.根据权利要求3所述的激光退火装置,其特征在于所述步进单元控制扫描反射镜进行扫描运动,所述工件台单元控制硅片进行步进运动。

5.根据权利要求3所述的激光退火装置,其特征在于所述聚焦透镜为一平场透镜。

6.如权利要求1-5之一所述的激光退火装置的操作方法,其特征在于包括如下步骤:

1) 工件台单元控制硅片运动到初始退火区域位置;

2)开启激光退火设备,工件台单元带动硅片在一个方向做扫描运动;

3)步进单元带动分光聚焦系统沿另一个方向步进到下一个退火区域;

4)重复步骤2)。

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