[发明专利]一种ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4 pn 结纳米棒阵列的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210592304.2 申请日: 2012-12-31
公开(公告)号: CN103066154A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 王春瑞;刘旭;徐靖;张瑶;陈效双;赵旭熠;莫志伟 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达
地址: 201620 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 zno cds cu sub znsns pn 纳米 阵列 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于纳米棒阵列的制备领域,特别涉及一种ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4pn结纳米棒阵列的制备方法。

背景技术

近年来,一维纳米结构材料因其与块体材料所不同的独特光学、电学性质,引起了人们广泛的兴趣。它们不仅提供了一个研究低维物体物理性质的理想体系,也是构筑纳米级电子、光子器件的重要结构单元。

Cu2ZnSnS4是一种p型直接带隙半导体材料,室温下其禁带宽度约为1.5eV,是单结太阳能电池的最优带隙并具有比较大的光吸收系数(>104cm-1),是理想的太阳能电池吸收层材料。目前,Cu2ZnSnS4纳米结构的研究方面已经取得了一定的进展,在发光二极管、太阳能电池或其它光电器件上有着潜在的应用前景。CdS是一种n型直接带隙半导体材料,室温下其禁带宽度约为2.42eV。目前,CdS纳米结构的研究方面已经取得了一定的进展,在非线性光学器件、发光二极管和太阳能电池等方面有着潜在的应用前景。它在传统Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池中充当过渡层。ZnO是一种n型直接宽带隙半导体材料,室温下其禁带宽度约为3.37eV并且具有可观的激子束缚能(60meV)。目前,ZnO纳米结构的研究方面已经取得了一定的进展,在光催化剂、压电器件、发光二极管、太阳能电池等方面有着潜在的应用前景。它在它在传统Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池中充当窗口层。ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4结构是Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池的典型结构,常采用工艺复杂的真空方法制备,而且目前有效电池面积非常小,这制约其商业化应用的进程。因此探索一种非真空简单易行的方法制备ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4异质结结构,特别是将传统ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4异质结结构中的ZnO薄膜用ZnO纳米棒取代,由于ZnO纳米棒阵列拥有比ZnO薄膜更加优越的性能,如更大的比表面积、更好的电子传输性能和避免了ZnO颗粒间的电子复合损失,有助于进一步提高Cu2ZnSnS4基薄膜太阳能电池的光电转换效率,这对于Cu2ZnSnS4薄膜太阳能电池技术领域具有重要意义。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4pn结纳米棒阵列的制备方法,该发明方法制备工艺简单易行,在常压下采用易于大规模生产的溶液法,重复性好,克服了真空法制备ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4pn结纳米棒阵列的困难且稳定性好;所得产物有望大大推进基于Cu2ZnSnS4基光伏器件的发展。

本发明的一种ZnO/CdS/Cu2ZnSnS4pn结纳米棒阵列的制备方法,包括:

(1)将玻璃衬底浸入Zn(CH3COO)2·2H2O的乙醇溶液30~60s,取出后冲洗,退火,自然冷却至室温,重复以上操作,得覆盖有ZnO种子层的基底;

(2)将Zn(NO3)2·6H2O的水溶液和六次甲基四胺HMTA的水溶液按体积比1:1混合,然后转入放有均匀ZnO种子层基底的反应釜中,进行水热反应,得到ZnO纳米棒阵列,退火,自然冷却至室温;

(3)将ZnO纳米棒阵列首先浸入到硝酸镉的乙醇溶液2~4分钟,取出后冲洗,再浸入硫化钠的甲醇溶液2~4分钟,取出后冲洗,以上操作为一个循环,重复此循环,退火,自然冷却至室温,得到ZnO/CdS芯/鞘纳米棒阵列;

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