[发明专利]电子照相感光体、处理盒和图像形成设备有效
申请号: | 201210592907.2 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103365128B | 公开(公告)日: | 2018-09-18 |
发明(设计)人: | 山本真也 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G5/14 | 分类号: | G03G5/14;G03G5/047;G03G21/18;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 处理 图像 形成 设备 | ||
本发明涉及一种电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。本发明提供了一种负带电型电子照相感光体,所述电子照相感光体包含:导电性基体;底涂层,所述底涂层包含粘合剂树脂和金属氧化物颗粒,并且所述底涂层的功函数为4.0eV~4.7eV;电荷产生层,其中,所述电荷产生层与所述底涂层的功函数之差为‑4eV~0eV;和电荷输送层,所述电荷输送层设置在所述电荷产生层上。
技术领域
本发明涉及电子照相感光体、处理盒和图像形成设备。
背景技术
JP-A-5-88393(专利文献1)公开了一种负带电型有机层叠型电子照相感光体,其中,底涂层的功函数由WUCL表示,电荷产生层的功函数由WCGL表示,满足表达式(WUCL-Wsub)>0.6或(WCGL-WUCL)>0.6,并且底涂层的厚度为2μm~20μm。
JP-A-2005-115356(专利文献2)公开了一种电子照相感光体,其中,在接触电位差的测定中,当通过改变样品侧电极获得的中间层的功函数φUL与样品侧电极的功函数φM的关系由以下表达式(a)φUL=α·φM+β(在该表达式中,α和β为常数)线性近似时,底涂层的功函数满足表达式0.3≤α≤0.8。
发明内容
本发明的目的是提供一种能够获得使曝光经历所引起的浓度不均匀(下文中称为“重影(ghost)”)得到抑制的图像的电子照相感光体。
根据本发明的第一方面,提供了一种负带电型电子照相感光体,所述电子照相感光体包含:导电性基体;底涂层,所述底涂层包含粘合剂树脂和金属氧化物颗粒,并且所述底涂层的功函数为4.0eV~4.7eV;电荷产生层,其中,所述电荷产生层与所述底涂层的功函数之差为-4eV~0eV;和电荷输送层,所述电荷输送层设置在所述电荷产生层上。
根据本发明的第二方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述底涂层还可以包含电子接受化合物。
根据本发明的第三方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述电荷产生层可以包含粘合剂树脂和电荷产生材料。
根据本发明的第四方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述底涂层的功函数可以为4.2eV~4.7eV。
根据本发明的第五方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述电荷产生层与所述底涂层的功函数之差可以为-3.5eV~-0.05eV。
根据本发明的第六方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述电荷产生层的功函数可以为4.1eV~4.5eV。
根据本发明的第七方面,在第一方面的电子照相感光体中,所述金属氧化物颗粒的体积平均粒径可以为50nm~500nm。
根据本发明的第八方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述电子接受化合物可以是具有蒽醌结构的化合物。
根据本发明的第九方面,在第二方面的电子照相感光体中,所述电子接受化合物可以是选自由蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚和红紫素组成的组的化合物。
根据本发明的第十方面,提供了一种处理盒,所述处理盒包含:电子照相感光体;和选自下述单元的至少一种单元:(A)对所述电子照相感光体的表面进行充电的充电单元,(B)在所述电子照相感光体的经充电的表面上形成静电潜像的潜像形成单元,(C)使用色调剂使形成在所述电子照相感光体的表面上的所述静电潜像显影从而形成色调剂图像的显影单元,(D)将形成在所述电子照相感光体的表面上的所述色调剂图像转印到记录介质上的转印单元,和(E)清洁所述电子照相感光体的清洁单元,其中,所述电子照相感光体是第一方面的电子照相感光体。
根据本发明的第十一方面,在第十方面的处理盒中,所述电子照相感光体的底涂层还可以包含电子接受化合物。
根据本发明的第十二方面,在第十一方面的处理盒中,所述电子接受化合物可以是具有蒽醌结构的化合物。
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