[发明专利]用于铝压铸模具的涂层材料以及制备该涂层材料的方法

权利要求书

1.一种用于铝压铸模具的涂层材料，其包括：

CrN结合层，形成在基材的表面上；

TiAlN/CrN纳米多层，通过TiAlN层和CrN层交替堆叠而形成在所述CrN结合层的表面上；以及

TiAlN/CrSi(C)N纳米多层，通过TiAlN层和CrSi(C)N层交替堆叠而形成在所述TiAlN/CrN纳米多层的表面上，

其中术语“TiAlN/CrSi(C)N”是指“TiAlN/CrSiN”或“TiAlN/CrSiCN”。

2.根据权利要求1所述的用于铝压铸模具的涂层材料，其中，

所述TiAlN/CrSi(C)N纳米多层具有0.5～5μm的厚度。

3.根据权利要求1所述的用于铝压铸模具的涂层材料，其中，

所述CrN结合层和所述TiAlN/CrN纳米多层分别具有0.5～5μm的厚度。

4.一种制备用于铝压铸模具的涂层材料的方法，包括：

响应于经腔室的气体入口输入氮气(N₂)而形成的氮气(N₂)氛围，使用Cr靶材，将CrN结合层沉积在基材的表面上；

使用TiAl靶材和所述Cr靶材，通过交替堆叠TiAlN层和CrN层将TiAlN/CrN纳米多层沉积在所沉积的CrN结合层的表面上；以及

使用所述TiAl靶材和CrSi靶材，通过交替堆叠TiAlN层和CrSiN层将TiAlN/CrSiN纳米多层沉积在所沉积的TiAlN/CrN纳米多层的表面上。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，

所述TiAlN/CrSiN纳米多层的沉积还包括将所述TiAlN/CrSiN纳米多层沉积为0.5～5μm的厚度。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，

所述CrN结合层的沉积还包括，将所述CrN结合层沉积为0.5～5μm的厚度，所述TiAlN/CrN纳米多层的沉积还包括，将所述TiAlN/CrN纳米多层沉积为0.5～5μm的厚度。

7.根据权利要求4所述的方法，其中，

所述TiAlN/CrN纳米多层的沉积还包括，沉积所述TiAlN/CrN纳米多层(120)，使所述TiAlN/CrN纳米多层中的Ti、Al和Cr的原子比为1:1:1。

8.根据权利要求4所述的方法，其中，

所述TiAlN/CrSiN纳米多层的沉积还包括，沉积所述TiAlN/CrSiN纳米多层，使所述TiAlN/CrSiN纳米多层中的Ti、Al、Cr和Si的原子比为1:1:0.9:0.1。

9.根据权利要求4所述的方法，其中，

使用物理气相沉积法进行所述沉积。

10.一种制造用于铝压铸模具的涂层材料的方法，包括：

响应于经腔室的气体入口输入氮气(N₂)而形成的氮气(N₂)氛围，使用Cr靶材，将CrN结合层沉积在基材的表面上；

使用TiAl靶材和所述Cr靶材，通过交替堆叠TiAlN层和CrN层将TiAlN/CrN纳米多层沉积在所沉积的CrN结合层的表面上；以及

响应于经所述腔室的气体入口输入乙炔气(C₂H₂)而形成的乙炔气(C₂H₂)氛围，使用所述TiAl靶材和CrSi靶材，通过交替堆叠TiAlN层和CrSiCN层将TiAlN/CrSiCN纳米多层沉积在所沉积的TiAlN/CrN纳米多层的表面上。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，

所述TiAlN/CrSiCN纳米多层的沉积还包括，将所述TiAlN/CrSiCN纳米多层沉积为0.5～5μm的厚度。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，

所述CrN结合层的沉积还包括，将所述CrN结合层沉积为0.5～5μm的厚度，所述TiAlN/CrN纳米多层的沉积还包括，将所述TiAlN/CrN纳米多层沉积为0.5～5μm的厚度。