[发明专利]晶圆表面处理装置有效

专利信息
申请号: 201210594008.6 申请日: 2012-12-31
公开(公告)号: CN103065996A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 吕海波;王振荣;刘红兵 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 李强
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 装置
【权利要求书】:

1.晶圆表面处理装置,其特征在于,包括晶圆夹持旋转装置和槽体;所述槽体设置有槽腔;所述晶圆夹持旋转装置铰接在槽体上端,可翻转地设置;

所述晶圆夹持旋转装置包括:

下表面用于固定晶圆的下基板,所述下基板可旋转地设置;

夹持夹子;所述夹持夹子包括向基板中心延伸的钩体;钩体位于下基板下方;钩体受驱动

可朝向下基板运动和远离下基板往复运动地设置。

2.根据权利要求1所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括第一驱动装置,所述第一驱动装置与所述夹持夹子传动连接,驱动所述钩体往复移动。

3.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括支撑板;所述支撑板位于下基板上方,支撑板受驱动朝向下基板运动或远离下基板运动;夹持夹子与支撑板连接,夹持夹子受支撑板驱动运动。

4.根据权利要求3所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括上基板;上基板与下基板间隔设置且相互连接,支撑板位于上基板与下基板之间;夹持夹子与支撑板连接,支撑板与钩体分别位于下基板上下两侧。

5.根据权利要求3所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置的动力输出装置驱动支撑板朝向下基板移动;还包括弹性复位装置,所述弹性复位装置在支撑板朝向下基板运动时产生弹性变形力;该弹性变形力具有使支撑板远离下基板的趋势。

6.根据权利要求5所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置的动力输出机构设置有活塞板;弹性复位装置为压缩弹簧;压缩弹簧一端抵靠在活塞板上,另一端抵靠在上基板上。

7.根据权利要求6所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第一驱动装置为单向动力输出装置。

8.根据权利要求4所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第一驱动装置为双向往复驱动装置。

9.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述夹持夹子还包括连杆,钩体设置在连杆下端部,钩体自连杆向下基板中心延伸;连杆穿过下基板,上端与支撑板连接;支撑板与钩体分别位于下基板上下两侧。

10.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括第二驱动装置;第二驱动装置与下基板传动连接;第二驱动装置驱动下基板旋转地设置。

11.根据权利要求10所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第二驱动装置与第一驱动装置传动连接,第二驱动装置通过驱动第一驱动装置旋转而驱动下基板旋转。

12.根据权利要求11所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括上基板;上基板与下基板间隔设置且相互连接;第一驱动装置与上基板连接,第一驱动装置旋转时带动上基板旋转而带动下基板旋转。

13.根据权利要求12所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括支撑板,支撑板可运动地设置于上基板与下基板之间;夹持夹子穿过下基板并与支撑板连接;第一驱动装置与支撑板传动连接,第一驱动装置驱动支撑板运动。

14.根据权利要求12所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括槽盖和罩壳;槽盖铰接于槽体上端;罩壳安装于槽盖上,罩壳具有一容腔;所述第一驱动装置与第二驱动装置均设置于容腔内,第一驱动装置可旋转地安装于槽盖上。

15.根据权利要求14所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置包括外壳和动力输出装置;动力输出装置与支撑板连接;所述外壳可旋转地设置于槽盖上且穿过槽盖并与上基板连接。

16.根据权利要求15所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述外壳与上基板通过套筒连接;套筒套装在外壳端部,且可旋转地安装在槽盖上,套筒穿过所述槽盖。

17.根据权利要求15或16所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述动力输出装置包括活塞板和活塞杆;活塞杆上端与活塞板连接,下端与支撑板连接;活塞板与活塞杆可运动地设置于外壳或套筒内,且活塞杆穿过上基板与支撑板连接;活塞板与上基板之间设置有弹性复位装置。

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