[发明专利]晶圆表面处理装置有效
申请号: | 201210594008.6 | 申请日: | 2012-12-31 |
公开(公告)号: | CN103065996A | 公开(公告)日: | 2013-04-24 |
发明(设计)人: | 吕海波;王振荣;刘红兵 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/687 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 装置 | ||
1.晶圆表面处理装置,其特征在于,包括晶圆夹持旋转装置和槽体;所述槽体设置有槽腔;所述晶圆夹持旋转装置铰接在槽体上端,可翻转地设置;
所述晶圆夹持旋转装置包括:
下表面用于固定晶圆的下基板,所述下基板可旋转地设置;
夹持夹子;所述夹持夹子包括向基板中心延伸的钩体;钩体位于下基板下方;钩体受驱动
可朝向下基板运动和远离下基板往复运动地设置。
2.根据权利要求1所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括第一驱动装置,所述第一驱动装置与所述夹持夹子传动连接,驱动所述钩体往复移动。
3.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括支撑板;所述支撑板位于下基板上方,支撑板受驱动朝向下基板运动或远离下基板运动;夹持夹子与支撑板连接,夹持夹子受支撑板驱动运动。
4.根据权利要求3所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括上基板;上基板与下基板间隔设置且相互连接,支撑板位于上基板与下基板之间;夹持夹子与支撑板连接,支撑板与钩体分别位于下基板上下两侧。
5.根据权利要求3所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置的动力输出装置驱动支撑板朝向下基板移动;还包括弹性复位装置,所述弹性复位装置在支撑板朝向下基板运动时产生弹性变形力;该弹性变形力具有使支撑板远离下基板的趋势。
6.根据权利要求5所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置的动力输出机构设置有活塞板;弹性复位装置为压缩弹簧;压缩弹簧一端抵靠在活塞板上,另一端抵靠在上基板上。
7.根据权利要求6所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第一驱动装置为单向动力输出装置。
8.根据权利要求4所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第一驱动装置为双向往复驱动装置。
9.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述夹持夹子还包括连杆,钩体设置在连杆下端部,钩体自连杆向下基板中心延伸;连杆穿过下基板,上端与支撑板连接;支撑板与钩体分别位于下基板上下两侧。
10.根据权利要求2所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括第二驱动装置;第二驱动装置与下基板传动连接;第二驱动装置驱动下基板旋转地设置。
11.根据权利要求10所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,第二驱动装置与第一驱动装置传动连接,第二驱动装置通过驱动第一驱动装置旋转而驱动下基板旋转。
12.根据权利要求11所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括上基板;上基板与下基板间隔设置且相互连接;第一驱动装置与上基板连接,第一驱动装置旋转时带动上基板旋转而带动下基板旋转。
13.根据权利要求12所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括支撑板,支撑板可运动地设置于上基板与下基板之间;夹持夹子穿过下基板并与支撑板连接;第一驱动装置与支撑板传动连接,第一驱动装置驱动支撑板运动。
14.根据权利要求12所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述晶圆夹持旋转装置还包括槽盖和罩壳;槽盖铰接于槽体上端;罩壳安装于槽盖上,罩壳具有一容腔;所述第一驱动装置与第二驱动装置均设置于容腔内,第一驱动装置可旋转地安装于槽盖上。
15.根据权利要求14所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述第一驱动装置包括外壳和动力输出装置;动力输出装置与支撑板连接;所述外壳可旋转地设置于槽盖上且穿过槽盖并与上基板连接。
16.根据权利要求15所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述外壳与上基板通过套筒连接;套筒套装在外壳端部,且可旋转地安装在槽盖上,套筒穿过所述槽盖。
17.根据权利要求15或16所述的晶圆表面处理装置,其特征在于,所述动力输出装置包括活塞板和活塞杆;活塞杆上端与活塞板连接,下端与支撑板连接;活塞板与活塞杆可运动地设置于外壳或套筒内,且活塞杆穿过上基板与支撑板连接;活塞板与上基板之间设置有弹性复位装置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造