[实用新型]射流超低频喷射器有效

专利信息
申请号: 201220002917.1 申请日: 2012-01-05
公开(公告)号: CN202410860U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 何念民 申请(专利权)人: 何念民
主分类号: B05B1/14 分类号: B05B1/14;B05B1/34
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 郭鸿雁
地址: 100051 北京市东*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 射流 低频 喷射器
【权利要求书】:

1.一种射流超低频喷射器,其特征在于:包括喷射器本体,喷射器本体内设有入水口、第一、二喷射腔,第一、二喷射腔相对于喷射器本体的中心线是不对称的,第一喷射腔包括依次相连通的第一流道、第一分流道、第一激励室、第三流道、第三激励室、第一喷射道、第一喷嘴,第二喷射腔包括依次相连通的第二流道、第二分流道、第二激励室、第四流道、第四激励室、第二喷射道、第二喷嘴,入水口设置在喷射器本体的一侧,第一、二喷嘴设置在喷射器本体的另一侧,入水口分别与第一、二流道相通。

2.根据权利要求1所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述第一、二分流道的截面不相等,第三、四流道的截面不相等,第一、二激励室的容积不相等,第三、四激励室的容积不相等,第一、二喷射道为锥形,从内向外宽度减小,第一、二喷射道的截面不相等,第一、二喷嘴的截面不相等。

3.根据权利要求2所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述第一流道与第一分流道相垂直,第一分流道的中心线与第一激励室的纵向中心线相偏移,第一激励室的纵向中心线与第三流道的中心线相偏移,第一分流道的中心线与第三流道的中心线相偏移,第三流道的中心线分别与第三激励室、第一喷射道的中心线相偏移,第三激励室的中心线与第一喷射道的中心线相偏移。

4.根据权利要求3所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述第二流道与第二分流道相垂直,第二分流道的中心线与第二激励室的纵向中心线相偏移,第二激励室的纵向中心线与第四流道的中心线相偏移,第二分流道的中心线与第四流道的中心线相偏移,第四流道的中心线分别与第四激励室、第二喷射道的中心线相偏移,第四激励室的中心线与第二喷射道的中心线相偏移。

5.根据权利要求4所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述第一、二流道的中心线位于同一条直线上且与入水口的中心线相垂直。

6.根据权利要求5所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述第一至四激励室的截面为方形或椭圆形或曲线形,第一、二分流道、第一至四流道的横截面为方形或椭圆形或曲线形。

7.根据权利要求6所述的射流超低频喷射器,其特征在于:所述喷射器本体为方形或圆柱形,采用金属或工程塑料制成。

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