[实用新型]基于位移反馈型振动台的次声发生装置

权利要求书

1.基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：包括位移反馈型振动台系统，次声发生腔和测量振动台的振动位移的激光测振仪，激光测振仪获取的振动位移计算获得次声发生腔产生的标准声压值                                                ，p为声压，γ为空气比热比，p₀为静压，d为活塞的直径，x为活塞运动的位移，V₀为活塞平衡位置时的密闭腔的体积；

位移反馈型振动台系统包括信号发生器、功率放大器和振动台和位移反馈组件；位移反馈组件包括测量振动台的运动部件的位移波形的位移传感器、比较位移波形与信号发生器产生的标准信号的偏差的比较器和对偏差信号进行计算处理的控制器，位移传感器与比较器之间设有调理位移波形的信号调理电路；振动台的运动部件受控于控制器，控制器与振动台之间设有放大控制器输出的控制信号的功率放大器；

振动台设有允许激光测振仪的测量光通过的光通道和将测量光反射回激光测振仪的反射体，测量光从振动台的尾部入射，反射体固定在振动台的运动部件背面；

次声发生腔为密闭腔体，次声发生腔内设有与腔体适配的活塞，活塞与振动台的运动部件的正面固定连接，被校准次声传感器安装在次声发生腔的腔体内。

2.如权利要求1所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：激光测振仪获取振动位移计算得到的标准声压值作为被校准次声传感器的校准基准；或者所述的次声发生腔内还设有标准次声传感器，标准次声传感器的输出作为被校准次声传感器的校准基准。

3.如权利要求1所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：所述的次声发生腔包括腔体、与腔体适配的活塞、活塞端密封装置、传感器安装密封盖和托持腔体的支座。

4.如权利要求3所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：所述的传感器安装密封盖上开设有容纳被校准次声传感器的第一容纳孔，第一容纳孔与被校准次声传感器之间设有第一传感器密封套筒。

5.如权利要求4所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：当腔体内还设有标准次声传感器时，传感器安装密封盖上还开设有容纳标准次声传感器的第二容纳孔，第二容纳孔与标准次声传感器之间设有第二传感器密封套筒。

6.如权利要求3所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：活塞端密封装置包括一体化密封膜和将一体化密封膜固定在次声发生腔上的环形密封件，环形密封件包括通过螺钉固定在次声发生腔上的固定件和将一体化密封膜压紧于固定件上的环形压板；一体化密封膜包括与环形密封件固接的外圈、与活塞固接的内圈和连接外圈和内圈的橡胶膜，固定件设有与外圈适配的第一安装槽，活塞上设有与内圈适配的第二安装槽。

7.如权利要求3所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：活塞端密封装置仅包括紧密地安装在腔体上的活塞套，活塞与活塞套仅靠配合间隙实现密封。

8.如权利要求1-7之一所述的基于位移反馈型振动台的次声发生装置，其特征在于：所述的次声发生装置还包括安装激光测振仪的激光测振仪底座，安装振动台的振动台底座，安装次声发生腔的腔体安装底板，和放置测量仪器及其他工具的工作台面，腔体安装底板和工作台面均安装在气腔底座上；激光测振仪底部设有可调支脚，激光测振仪和可调支脚放置激光测振仪底座上，激光测振仪底座通过减震器放置在地基上，振动台底座和气腔底座通过可调垫铁安装于地基上。