[实用新型]用于光刻系统的光能量监测系统有效
申请号: | 201220013378.1 | 申请日: | 2012-01-12 |
公开(公告)号: | CN202472238U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 何少锋 | 申请(专利权)人: | 合肥芯硕半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01J1/00 |
代理公司: | 合肥金安专利事务所 34114 | 代理人: | 王挺 |
地址: | 230601 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 光刻 系统 能量 监测 | ||
1.一种用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:本系统包括光源、光传输组件、投影曝光组件;所述光源与光传输组件之间的光路和/或光传输组件与投影曝光组件之间的光路上设置有监测光强的第一感光探头,所述投影曝光组件的出射端设置有监测光强的第二感光探头;所述第一感光探头和第二感光探头的信号输出端均与计算机相连。
2.根据权利要求1所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述第一感光探头通过第一感光探头控制器与计算机相连,第二感光探头通过第二感光探头控制器与计算机相连。
3.根据权利要求1所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述光传输组件包括沿光的传输方向依次设置的第一透镜或透镜组、分束器、第二透镜或透镜组;所述投影曝光组件包括沿光的投影方向依次设置的图形发生器和第三透镜或透镜组;光源发出的光依次经过第一透镜或透镜组、分束器、第二透镜或透镜组而投射至图形发生器处,光经由图形发生器反射后经过第三透镜或透镜组而出射至第二感光探头处;所述第一感光探头设置在分束器的旁侧,且第一感光探头用于监测分束器所分出光束的光强。
4.根据权利要求3所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:本系统还包括载物平台,且所述第二感光探头设置在载物平台上。
5.根据权利要求4所述的用于光刻系统的光能量监测系统,其特征在于:所述第二感光探头的位置或者载物平台在平台移动控制器的控制下移动使得自第三透镜或透镜组出射的光全部进入第二感光探头,所述光源和平台移动控制器均与计算机相连。
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