[实用新型]用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置

说明书

技术领域

    本实用新型涉及光学领域，具体涉及一种用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置。

背景技术

现有的投影光学系统中，需要将被照明物均匀照明，经过成像系统将被照明物予以投影，从而获得所需要的图像。在投影显示和投影曝光系统中，需要提供较高的能量，以期使得投影出来的图像够亮或使得曝光基底予以曝光。通常情况下，多采用高能量的光源和提高系统的能量利用率。采用高能量的光源，势必会增加相应的成本，同时，光源能量的增加也是有限的。在光学系统相应元器件确定的情况下，提高系统的能量利用率也是有限。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能提高光源能量和系统能量利用率的用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置。

    本实用新型采用的技术方案是：

    用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置，包括有两个激光光源，分别为激光光源一、激光光源二，其特征在于：还包括有一个分光棱镜，所述激光光源一、激光光源二分别位于分光棱镜的正上方、正左方，激光光源一、激光光源二发射的光束分别垂直入射到分光棱镜的分光面上，激光光源一的光束经分光棱镜反射后与经分光棱镜后透射的激光光源二的光束合并成一束光束。

所述的用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置，其特征在于：所述激光光源一、激光光源二为线偏振的激光光源；所述分光棱镜为高偏振度的偏振分光棱镜。

本实用新型的工作原理是：

本实用新型利用半导体激光器光束的线偏振特性和偏振分光棱镜的偏振分光特性，对两束线偏振的光束予以合光，达到提高光源能量和系统能量利用率的目的。

本实用新型的优点是：

本实用新型具有高合光效率、无光束位置偏移，通过两束光束的叠加，一定程度上降低了光源的相干性，提高了照明的均匀性，并且降低了成本。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

    如图1所示，用于无掩膜光刻投影曝光系统的偏振合光装置，包括有两个激光光源，分别为激光光源一1、激光光源二2，还包括有一个分光棱镜3，激光光源一1、激光光源二2分别位于分光棱镜3的正上方、正左方，激光光源一1、激光光源二2发射的光束分别垂直入射到分光棱镜3的分光面上，激光光源一1的光束经分光棱镜3反射后与经分光棱镜3后透射的激光光源二2的光束合并成一束光束。

激光光源一1、激光光源二2为线偏振的激光光源；分光棱镜3为高偏振度的偏振分光棱镜。