[实用新型]一种压合式无接着剂型单面铜箔基板有效
申请号: | 201220019035.6 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN202283799U | 公开(公告)日: | 2012-06-27 |
发明(设计)人: | 黄俊明;刘荣镇;张正浩;漆小龙 | 申请(专利权)人: | 广州联茂电子科技有限公司 |
主分类号: | B32B15/08 | 分类号: | B32B15/08;B32B15/20;B32B27/04;B32B27/12 |
代理公司: | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人: | 张文雄 |
地址: | 510630 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 合式 接着 剂型 单面 铜箔 | ||
1.一种压合式无接着剂型单面铜箔基板,其特征是:由聚酰亚胺复合膜与铜箔(1)经高温压制贴合而成,聚酰亚胺复合膜经高温压制与铜箔(1)紧密贴合,在所述聚酰亚胺复合膜与铜箔(1)的贴合处形成熔合式连接结构。
2.根据权利要求1所述的一种压合式无接着剂型单面铜箔基板,其特征是:所述聚酰亚胺复合膜包括热固性聚酰亚胺层(2)和热塑性聚酰亚胺层(3),热塑性聚酰亚胺层(3)贴合在热固性聚酰亚胺层(2)的两面上,形成TPI/PI/TPI结构复合膜,所形成的聚酰亚胺复合膜的厚度为10-50um。
3.根据权利要求1所述的一种压合式无接着剂型单面铜箔基板,其特征是:所述聚酰亚胺复合膜包括热固性聚酰亚胺层(2)和热塑性聚酰亚胺层(3),热塑性聚酰亚胺层(3)贴合在热固性聚酰亚胺层(2)的一面上,形成TPI/PI结构复合膜,所形成的聚酰亚胺复合膜的厚度为10-50um。
4.根据权利要求1所述的一种压合式无接着剂型单面铜箔基板,其特征是:所述热塑性聚酰亚胺层(3)的厚度为1-10um。
5.根据权利要求1所述的一种压合式无接着剂型单面铜箔基板,其特征是:所述铜箔(1)为电解铜箔或压延铜箔,其厚度可以为9-70um。
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