[实用新型]一种硅基薄膜生产装置

权利要求书

1.一种硅基薄膜生产装置，其特征在于由加热段、真空过渡段、沉积段、真空过渡段、冷却段组成，自动闸板阀装于各工作室之间，加热段和冷却段为非真空段，加热段装置采用连续梯度加热方法加热，可梯度的将基片加热至设定温度，沉积段由至少两个沉积模块构成，每个沉积模块均由沉积室、真空过渡室、传动装置、位置测量装置、真空获得装置、配气装置和排气装置组成，沉积室分布在真空过渡室的两侧，每一个沉积室分别与一台工艺干泵相连，沉积室和真空过渡室共用一套真空获得装置，沉积模块两端均设有连接装置，连接装置的尺寸和形状完全相同或相互配合的，通过连接装置将平行排列的沉积模块连接起来形成一个连续镀膜的沉积段。

2.根据权利要求1所述的一种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中沉积室同真空过渡室之间装有自动轧板阀。

3.根据权利要求1所述的一种硅基薄膜生产装置，其特征在于沉积室中阳极板下方装有光栅尺和微动气缸。

4.根据权利要求1所述的一种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中的真空过渡室中设有横向滚轮和纵向滚轮，纵向滚轮安装在横向滚轮中间，横向滚轮位置固定不变，纵向滚轮可以双向滚动，并且纵向滚轮下方安装有微动气缸可以调节升降。

5.根据权利要求1所述的一种硅基薄膜生产装置，其特征在于所述的沉积模块中沉积室和真空过渡室均安装了温度测量及加热控制装置。