[实用新型]用于化学气相沉积工艺的喷淋头有效
申请号: | 201220027841.8 | 申请日: | 2012-01-21 |
公开(公告)号: | CN202450156U | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 梁秉文;陈勇;叶芷飞 | 申请(专利权)人: | 光达光电设备科技(嘉兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 郑玮 |
地址: | 314300 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 工艺 喷淋 | ||
1.一种用于化学气相沉积工艺的喷淋头,其特征在于,包括:
金属主体层,在进行化学沉积工艺时的温度低于300摄氏度;
外表面层,位于所述金属主体层的靠近衬底一侧的表面,所述外表面层在进行化学气相沉积工艺时的温度高于所述金属主体层的温度。
2.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述金属主体层中具有冷却介质流动,该冷却介质用于对所述金属主体层进行冷却,使得所述金属主体层的温度低于200摄氏度。
3.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层上设置有温控装置,用于控制外表面层的温度,使得所述外表面层的靠近衬底一侧的温度范围为300~800摄氏度。
4.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的厚度范围为10微米到5毫米。
5.如权利要1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层通过机械方式与所述金属主体层结合,使得所述外表面层可以从所述金属主体层上移除。
6.如权利要求1所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的靠近衬底一侧的表面为粗糙表面。
7.如权利要求7所述的喷淋头,其特征在于,所述外表面层的靠近衬底一侧的表面的粗糙度范围为200纳米~100微米。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的