[实用新型]一种铜电沉积自动控制装置有效
申请号: | 201220034344.0 | 申请日: | 2012-02-03 |
公开(公告)号: | CN202492589U | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 唐智荣;刘正义;崔磊;何世武;李建光 | 申请(专利权)人: | 昆山市洁驰环保科技发展有限公司 |
主分类号: | C25C1/12 | 分类号: | C25C1/12;C25C7/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹毅 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 自动控制 装置 | ||
技术领域
本实用新型适用于印制线路板的蚀刻等废液铜回收领域,尤其涉及一种铜电沉积自动控制装置。
背景技术
全球PCB产业产值占电子元件产业总产值的四分之一以上,是各个电子元件细分产业中比重最大的产业。同时,由于其在电子基础产业中的独特地位,已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。蚀刻再生系统、电镀等作为PCB制程中的重要工艺,所产生的废液规模庞大,为此对大规模回收铜的设备需求也日益增加,对其自动化的要求更加迫切。
实用新型内容
本实用新型提供一种铜电沉积自动控制装置,在蚀刻等废液中进行铜回收的沉积过程中,节省生产人力,避免人为的误操作,保证铜电沉积的生产稳定与品质。
本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:
本实用新型的一种铜电沉积自动控制装置,包括如下结构:电沉积槽、整流母线铜排、整流器和智能计时器,所述电沉积槽和整流器之间通过整流母线铜排连接,所述整流器与智能计时器之间通过数据电源线连接。
优选的,所述电沉积槽的内部装有可供点沉积的阴极板和阳极板,电沉积槽内的阴极板和阳极板用整流母线铜排与整流器相连。
优选的,所述智能计时器的输出控制信号为DC4-20mA的线性信号。
优选的,所述智能计时器可设定铜电沉积控制系统所需要的参数范围和控制方式。
优选的,所述整流器与智能计时器之间为自动控制的开环系统。
工作原理:在电沉积槽内部可以电沉积出阴极铜的药水,根据铜电沉积工艺的电流变化规律要求,在智能计时器内部设定好参数,使其输出随电镀时间衰减的线性信号,进而自动控制整流器的输出直流电流同样随电镀时间线性衰减,达到铜电沉积的生产工艺要求。
与现有技术相比,本实用新型的技术方案的优点为:
本实用新型的一种铜电沉积自动控制装置,在蚀刻、电镀等废液中进行铜回收的沉积过程中,节省人力,保证铜沉积的稳定与品质,其包括如下结构:电沉积槽、整流母线铜排、整流器、智能计时器。其中所述电沉积槽中有可以电沉积出阴极铜的药水,整流器提供合适的铜电沉积直流电流,整流母线铜排提供电解电流回路,智能计时器提供随时间自动衰减的线性输出信号。与传统的操作人员手动控制铜电沉积电流的方法的本质区别是,本实用新型的特点采用全自动控制铜电沉积直流电流的方法,使铜沉积产能与品质稳定可靠,系统操作便捷。
附图说明
图1是本实用新型的一种铜电沉积自动控制装置的结构示意图。
图中标号说明:1.电沉积槽,2.整流母线铜排,3.整流器,4.智能计时器。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明专利提供一种铜电沉积自动控制系统,其包括如下结构:电沉积槽1、整流母线铜排2、整流器3、智能计时器4。
所述的电沉积槽1为主体,其内部安装有多套阴阳电极,电极浸入在电沉积槽1内可以电沉积出阴极铜的药水中,并与所述整流母线铜排2连接;所述的整流母线铜排2与整流器3连接,所述整流器3与智能计时器4用数据电源线相连。
所述的智能计时器4,通过设定好铜电沉积的生产时间和输出范围,则在系统启动后,使整流器3的输出直流电流在整个生产时间过程中,呈现初始值最大、终止值最小的自动衰减线性变化,从而使铜电沉积产能和品质稳定。
上述实施例只是为了说明本实用新型的技术构思及特点,其目的是在于让本领域内的普通技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡是根据本实用新型内容的实质所作出的等效的变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
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