[实用新型]图像传感器及源跟随器有效
申请号: | 201220044374.X | 申请日: | 2012-02-10 |
公开(公告)号: | CN202633312U | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 赵立新;李文强;李杰;霍介光 | 申请(专利权)人: | 格科微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H03F3/50 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像传感器 跟随 | ||
1.一种图像传感器,其特征在于,包括一个或多个像素单元,其中每个像素单元包括:
光电二极管,用于感应光强变化而生成相应的图像电荷信号;
转移晶体管,用于转移所述图像电荷信号;
源跟随晶体管,用于基于所转移的图像电荷信号生成电压信号,其中,所述源跟随晶体管是结型场效应晶体管。
2.根据权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述源跟随晶体管包括:
第一导电类型衬底;
第二导电类型阱,位于所述第一导电类型衬底中;
第二导电类型掺杂层,至少部分位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型源区,位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型漏区,位于所述第一导电类型衬底中和/或位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型阱,至少部分位于所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层之间,以使得所述第一导电类型源区与所述第一导电类型漏区电连接。
3.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层在所述第一导电类型阱外至少部分相互重叠,以使得所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层相互电连接。
4.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述第一导电类型漏区至少部分位于所述第二导电类型阱外。
5.根据权利要求4所述的图像传感器,其特征在于,多个像素单元的至少部分源跟随晶体管的第一导电类型漏区至少部分地位于所述第二导电类型阱外,以使得所述至少部分源跟随晶体管的第一导电类型漏区具有相等的电位。
6.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述第二导电类型掺杂层耦接至所述转移晶体管的漏极,所述第一导电类型漏区耦接至参考电位线,所述第一导电类型源区用于输出所述电压信号。
7.根据权利要求2所述的图像传感器,其特征在于,所述第一导电类型衬底中还包括介电隔离区,其位于所述第二导电类型阱外,用于隔离所述第二导电类型阱与所述光电二极管。
8.一种源跟随器,其特征在于,包括源跟随晶体管与偏置电流源,其中,所述源跟随晶体管是结型场效应晶体管,其栅极用于接收输入信号;其漏区耦接至参考电位线;其源区耦接至所述偏置电流源以获取偏置电流,并用于输出电压信号。
9.根据权利要求8所述的源跟随器,其特征在于,所述源跟随晶体管包括:
第一导电类型衬底;
第二导电类型阱,位于所述第一导电类型衬底中;
第二导电类型掺杂层,至少部分位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型源区,位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型漏区,位于所述第一导电类型衬底中和/或位于所述第二导电类型阱中;
第一导电类型阱,至少部分位于所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层之间,以使得所述第一导电类型源区与所述第一导电类型漏区电连接。
10.根据权利要求9所述的源跟随器,其特征在于,所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层在所述第一导电类型阱外至少部分相互重叠,以使得所述第二导电类型阱与所述第二导电类型掺杂层相互电连接。
11.根据权利要求9所述的源跟随器,其特征在于,所述第一导电类型漏区至少部分位于所述第二导电类型阱外。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的