[实用新型]核岛反应堆基础底部压力灌浆装置、灌浆系统

权利要求书

1.一种核岛反应堆基础底部压力灌浆装置，包括在基层面（3）上设置的凹槽和置于该凹槽内的灌浆管（1），其特征在于：还包括并排均匀距离固定在基层面（3）凹槽上的若干个灌浆管固定支架（2），所述灌浆管（1）穿过该若干个灌浆管固定支架（3）的内部；

所述每个灌浆管固定支架（3）上固定有两个不接触的测量探头和一个LED灯（4），所述两个测试探头触头一端位于同一水平面上，该两个测试探头的另一端分别外接连接电源一端和所述LED灯（4）一端，所述外接电源另一端与所述LED灯（4）另一端连接。

2.根据权利要求1所述的核岛反应堆基础底部压力灌浆装置，其特征在于：所述凹槽深度大于等于5cm，宽度大于等于15cm。

3.根据权利要求1所述的核岛反应堆基础底部压力灌浆装置，其特征在于：所述灌浆管固定支架（3）采用带有两支脚的“п”形结构，该灌浆管固定支架（3）通过两支脚插入所述基层面（3）凹槽两侧固定在基层面（3）上，该灌浆管固定支架（3）伸出基层面（3）3-10cm。

4.一种由权利要求1至3任意一项所述灌浆装置构成的反应堆基础底部灌浆系统，其特征在于：在基层面（3）内壁上以“十”字形布置有第一灌浆装置（5）、第二灌浆装置（7）、第三灌浆装置（6）和第四灌浆装置（8），该四个灌浆装置将基层面（3）分割成四个扇形面；在所述四个扇形面上以“十”字形布置第五灌浆装置（9）、第六灌浆装置（10）、第七灌浆装置（11）和第八灌浆装置（12），所述第五灌浆装置（9）、第六灌浆装置（10）、第七灌浆装置（11）和第八灌浆装置（12）的轴线分别位于所在扇形面的角平分线上。

5.根据权利要求4所述的反应堆基础底部灌浆系统，其特征在于：所述第一灌浆装置（5）和第三灌浆装置（6）上各有六个灌浆管固定支架（3）；第二 灌浆装置（7）和第四灌浆装置（8）上各有五个灌浆管固定支架（3）；第五灌浆装置（9）、第六灌浆装置（10）、第七灌浆装置（11）和第八灌浆装置（12）上各有四个灌浆管固定支架（3）。

6.根据权利要求4所述的反应堆基础底部灌浆系统，其特征在于：所述第一灌浆装置（5）和第三灌浆装置（6）上各自的六个灌浆管固定支架（3）分别在自基层面（3）中心处向外分布的L1、L2、L3、L4、L5、L6位置上；第二灌浆装置（7）和第四灌浆装置（8）上各自的五个灌浆管固定支架（3）分别在自基层面（3）中心处向外分布的L2、L3、L4、L5、L6位置上；第五灌浆装置（9）、第六灌浆装置（10）、第七灌浆装置（11）和第八灌浆装置（12）上各自的四个灌浆管固定支架（3）分别在自基层面（3）中心处向外分布的LL1、LL2、LL3、LL4位置上。

7.根据权利要求6所述的反应堆基础底部灌浆系统，其特征在于：所述L1位置在以基层面（3）中心为圆心，150cm为半径的圆上；L2位置在与L1位置所在圆距离150cm的同心圆上；L3位置在与L2位置所在圆距离150cm的同心圆上；L4位置在与L3位置所在圆距离150cm的同心圆上；L5位置在与L4位置所在圆距离150cm的同心圆上、L6位置在与L5位置所在圆距离150cm的同心圆上；

LL1位置在以基层面（3）中心为圆心，950cm为半径的圆上；LL2位置在在与LL1位置所在圆距离50cm的同心圆上；LL3位置在在与LL2位置所在圆距离50cm的同心圆上；LL4位置在在与LL3位置所在圆距离50cm的同心圆上。