[实用新型]微细间距凸块结构有效
申请号: | 201220058807.7 | 申请日: | 2012-02-22 |
公开(公告)号: | CN202651097U | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 施政宏;谢永伟;林淑真;林政帆;戴华安 | 申请(专利权)人: | 颀邦科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台湾新竹科学*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 微细 间距 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种凸块结构,特别是涉及一种防止铜离子游离的微细间距凸块结构。
背景技术
在微细间距凸块结构中,由于铜凸块的铜离子会产生游离现象,因此若相邻铜凸块的间距太近,容易导致短路的情形发生。
由此可见,上述现有的微细间距凸块结构在结构与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的微细间距凸块结构,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。
发明内容
本实用新型的目的在于,克服现有的微细间距凸块结构存在的缺陷,而提供一种新型结构的微细间距凸块结构,所要解决的技术问题是使其藉由在含钛金属层、铜凸块的该第一顶面及第一环壁上形成凸块保护层及金层,可防止铜凸块中的铜离子游离而造成短路的情形,进而提高微细间距凸块结构的可靠度,非常适于实用。
本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本实用新型提出的一种微细间距凸块结构,其至少包含一硅基板、多个凸块下金属层、多个铜凸块、多个凸块保护层以及多个金层,该硅基板具有一表面、多个设置于该表面的焊垫及一设置于该表面的保护层,该保护层具有多个开口,且该些开口显露该些焊垫,该些凸块下金属层形成于该些焊垫上,各该凸块下金属层具有一凸块承载部及一延伸部,该些铜凸块形成于该些凸块下金属层上,且各该铜凸块具有一第一顶面及一第一环壁,各该凸块下金属层的该凸块承载部位于各该铜凸块下,各该凸块下金属层的该延伸部凸出于各该铜凸块的该第一环壁,该些凸块保护层形成于该些凸块下金属层的该些延伸部、各该铜凸块的该第一顶面及该第一环壁上,各该凸块保护层具有一凸块覆盖部及一金属层覆盖部,各该凸块覆盖部包覆各该铜凸块的该第一顶面及该第一环壁且该凸块覆盖部具有一第二 顶面及一第二环壁,各该金属层覆盖部覆盖各该延伸部,该些金层形成于各该金属层覆盖部、各该凸块覆盖部的该第二顶面及该第二环壁上,且各该金层具有一第三顶面。
本实用新型的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。
前述的微细间距凸块结构,还包含有多个可润湿层,该些可润湿层形成于该些金层的该些第三顶面上。
前述的微细间距凸块结构,其中各该金属层覆盖部具有一第一外侧壁,且该金属层覆盖部凸出于该凸块覆盖部的该第二环壁。
前述的微细间距凸块结构,其中各该金层还具有一第二外侧壁,该第二外侧壁是与各该金属层覆盖部的该第一外侧壁平齐。
前述的微细间距凸块结构,其中各该凸块下金属层的该延伸部具有一第三外侧壁,该第三外侧壁是与各该金属层覆盖部的该第一外侧壁平齐。
本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案,本实用新型微细间距凸块结构至少具有下列优点及有益效果:本实用新型藉由在该含钛金属层、各该铜凸块的该第一顶面及该第一环壁上形成该些凸块保护层及该些金层,可防止该些铜凸块中的铜离子游离而造成短路的情形,进而提高微细间距凸块结构的可靠度。
综上所述,本实用新型在技术上有显著的进步,并具有明显的积极效果,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是依据本实用新型的一较佳实施例的一种微细间距凸块制造方法的流程图。
图2A、图2B、图2C、图2D、图2E、图2F-1、图2G、图2H-1、图2I、图2J、图2K及图2L-1是依据本实用新型的一较佳实施例的一种微细间距凸块制造方法的截面示意图。
图2F-2、图2H-2及图2L-2分别是图2F-1、图2H-1及图2L-1的局部放大图。
11:提供一硅基板
12:形成一含钛金属层于该保护层及该些焊垫,该含钛金属层具有多个第一区及多个位于该些第一区外侧的第二区
13:形成一光阻层于该含钛金属层
14:图案化该光阻层以形成多个开槽,该些开槽对应该含钛金属层的该些第一区
15:形成多个铜凸块于该些第一区,各该铜凸块具有一第一顶面及一第一环壁
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于颀邦科技股份有限公司,未经颀邦科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220058807.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。