[实用新型]真空吸附工作台有效
| 申请号： | 201220067966.3 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN202479709U | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 杨宏振;高云峰 | 申请（专利权）人： | 深圳市大族激光科技股份有限公司;深圳市大族数控科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/42 | 分类号： | B23K26/42;B23K26/36 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 吸附 工作台 | ||
1.一种真空吸附工作台，包括底板和面板，所述底板与所述面板固定在一起并形成一个腔体，所述真空吸附工作台上设有与所述腔体相连通的抽气口，所述面板上设有多个与所述腔体相连通的吸气孔，其特征在于，所述吸气孔包括相互连通的第一连通孔与第二连通孔，所述第一连通孔的孔径大于所述第二连通孔的孔径，所述第一连通孔设于所述面板的表面并通过所述第二连通孔与所述腔体相连通。
2.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述第二连通孔的孔径为0.3～0.75mm，所述第二连通孔的孔长为1.5～4mm。
3.根据权利要求1或2所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述第一连通孔的孔径是所述第二连通孔的孔径的2～10倍。
4.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，多个所述吸气孔在所述面板上均匀分布。
5.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，多个所述吸气孔在面板上的分布密度由面板的中心向四周递减。
6.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述真空吸附工作台还包括具有密封作用的密封圈，所述密封圈设于面板与底板之间。
7.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述底板与所述面板为一体成型结构。
8.根据权利要求1或6或7所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述抽气口设于所述真空吸附工作台的侧面或所述底板上。
9.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述真空吸附工作台还包括连接底板与真空发生系统的真空管接头，所述真空管接头固定在所述底板上并通过所述抽气口与所述腔体连通。
10.根据权利要求1所述的真空吸附工作台，其特征在于，所述底板上设有多个支撑面板的凸台。
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