[实用新型]具有加热媒介的薄膜沉积设备有效
| 申请号： | 201220078618.6 | 申请日： | 2012-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN202465869U | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 林朝晖;王树林 | 申请（专利权）人： | 泉州市博泰半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 具有 媒介 薄膜 沉积 设备 | ||
1.一种具有加热媒介的薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备用来在基板表面沉积薄膜，所述薄膜沉积设备具有间隔交替放置的复数个接地电极板和激励电极板，所述基板安装在接地电极板上，其特征在于：所述加热媒介位于所述复数个电极板之间，或位于激励电极板表面，或位于所述复数个电极板的周围。
2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述加热媒介为平板加热装置，所述平板加热装置包括复数个板状加热器组成的阵列，所述加热器分别位于所述电极板两侧的基板之间或位于电极板的表面或位于所述复数个电极板的周围。
3.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述加热媒介为加热灯。
4.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述基板为至少一片硅片。
5.如权利要求4所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述硅片位于接地电极板上。
6.如权利要求2所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述平板加热装置的复数个板状加热器的连接方式为串联或并联。
7.如权利要求6所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述复数个板状加热器分别接有温度传感器以测量所述板状加热器的温度。
8.如权利要求2所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述板状加热器包括金属板或陶瓷板或其组合。
9.如权利要求8所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述板状加热器的内部具有发热体。
10.如权利要求8所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述板状加热器的表面具有发热体。
11.如权利要求8所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述板状加热器的本身即为发热体。
12.如权利要求9或10或11所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述发热体为网状电阻丝。
13.如权利要求12所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述网状电阻丝位于激励电极板的表面。
14.如权利要求1所述的薄膜沉积设备，其特征在于：所述加热媒介为热气体。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泉州市博泰半导体科技有限公司，未经泉州市博泰半导体科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220078618.6/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有孔状式晶圆电镀槽的设备
- 下一篇：单元式溅射抽气模块
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
