[实用新型]1940纳米带通红外滤光片有效
申请号: | 201220090996.6 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN202472021U | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 吕晶 | 申请(专利权)人: | 杭州麦乐克电子科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B32B9/04;B32B15/00 |
代理公司: | 杭州金源通汇专利事务所(普通合伙) 33236 | 代理人: | 唐迅 |
地址: | 310000 浙江省杭州市西*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 1940 纳米 通红 滤光 | ||
1.一种1940内米带通红外滤光片,包括以Bk7玻璃为原材料的基板(1)、以Si和SiO为镀膜材料的第一镀膜层(2)和以SiO和Si为镀膜材料的第二镀膜层(3),所述基板(1)位于第一镀膜层(2)和第二镀膜层(3)之间,其特征是第一镀膜层(2)包含从内向外依次排列的厚度为30nm的Si层、厚度为154nm的SiO层、厚度为76nm的Si层、厚度为121nm的SiO层、厚度为53的Si层、厚度为132nm的SiO层、厚度为67的Si层、厚度为112nm的SiO层、厚度为62的Si层、厚度为131nm的SiO层、厚度为63的Si层、厚度为121nm的SiO层、厚度为75的Si层、厚度为227nm的SiO层、厚度为78的Si层、厚度为137nm的SiO层、厚度为88的Si层、厚度为218nm的SiO层、厚度为102的Si层、厚度为196nm的SiO层、厚度为60的Si层、厚度为168nm的SiO层、厚度为122的Si层、厚度为226nm的SiO层、厚度为275的Si层、厚度为278nm的SiO层、厚度为157的Si层、厚度为472nm的SiO层、厚度为155的Si层、厚度为329nm的SiO层、厚度为225的Si层、厚度为337nm的SiO层、厚度为185的Si层、厚度为446nm的SiO层、厚度为163的Si层以及厚度为235nm的SiO层;第二镀膜层(3)包含从内向外依次排列的厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为1584nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为1584nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为264nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为1584nm的SiO层、厚度为135nm的Si层、厚度为260nm的SiO层、厚度为97nm的Si层以及厚度为204nm的SiO层。
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