[实用新型]真空镀膜用离子轰击板机构有效
申请号: | 201220096743.X | 申请日: | 2012-03-14 |
公开(公告)号: | CN202881375U | 公开(公告)日: | 2013-04-17 |
发明(设计)人: | 朱殿荣;曹俊 | 申请(专利权)人: | 无锡康力电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 夏平 |
地址: | 214253 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空镀膜 离子 轰击 板机 | ||
1.一种真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是它包括电源、与电源阴极相连的充气管(1)、与电源阳极相连的冷却水管(2)和绝缘件(7),所述的冷却水管(2)与充气管(1)相对设置,待轰击基材(8)从冷却水管(2)和充气管(1)间的夹隙中通过,进行离子轰击,所述的充气管(1)的一端为进气口(3),充气管(1)上与待轰击基材(8)相对的一面设有若干个出气口(4),所述的充气管(1)和冷却水管(2)的两端夹装绝缘件(7)。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述电源的阳极与阴极采用不锈钢板材。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述的冷却水管(2)的两端分别为进水口(5)和出水口(6),进水口(5)和出水口(6)串接,循环冷却。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述的充气管(1)中充入的气体为氩气。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述的若干个出气口(4)均匀的布置在充气管(1)上。
6.根据权利要求1、5所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述的各出气口(4)的孔径均为0.5mm,各出气口(4)的间隔为30mm。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构,其特征是所述的绝缘件(7)为聚四氟绝缘件。
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