[实用新型]缓冲式药液添加系统有效
申请号: | 201220104208.4 | 申请日: | 2012-03-19 |
公开(公告)号: | CN202601696U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 施利君;钱诚 | 申请(专利权)人: | 苏州晶洲装备科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C30B33/10 |
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地址: | 215555 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缓冲 药液 添加 系统 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种用于太阳能硅电池湿法刻蚀机及制绒机的缓冲式药液添加系统,该系统主要应用于防止腐蚀性药液添加时快速不安全性,解决了该设备中添加的精确度和安全性。
【背景技术】
目前,国内国产的太阳能硅电池湿法刻蚀及制绒设备中,由于药液添加的特殊工艺要求,添加速度过快,导致添加盒液位波动较大,当液位波动较大时影响添加药液的精度同时,对液位监测传感器带来干扰。
【实用新型内容】
为了保证药液添加系统的精确度和传感器的准确输出,本实用新型提供了一种缓冲式药液添加系统,通过这套缓冲系统,解决了传统的添加导致精确度低,传感器误反馈的难题。充分提高了药液的浓度比例,使工艺达到理想的要求。
本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现:一种缓冲式药液添加系统,包括缓冲盒、进液管和添加液管,其特征在于:所述缓冲盒内设有高精度液位计,并且液位计设有保护装置使液位上升是在浮力作用下完成,避免了连续添加液面浮动所带来的误差,提高液位显示精度。
所述液位计保护管上方开有透气孔,避免内压差使液位不准确。
本实用新型的有益效果是:药液快速添加时能精确控制添加药液体积,明显提高药液配比浓度同时达到理想的工艺要求。
【附图说明】
图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
下面结合附图对本实用新型进一步详述:
如图1所示,一种缓冲式药液添加系统,包括缓冲盒1、进液管2和添加液管3,其特征在于:所述缓冲盒1内设有高精度液位计4,所述高精度液位计4上设有液位计保护管5。
药液通过进液管2进入缓冲盒1内,由于高精度液位计4有液位计保护管5的保护,当进液管2快速进液时,对高精度液位计4产生较小的干扰保证液位计准确反馈液位高度。
为了尽可能在结构上降低液面波动,在液位计保护管5上方开有透气孔(图中未示出),保证液位计4因压力差带来的误显示的情况,致使药液添加精度降低。
由于药液添加通常在几次连续添加过程中完成,缓冲式药液添加系统通过液位保护管,在浮力的作用下使液位缓慢上升,液面波动微小可以消除连续添加中带来的误差提高添加精度。
则本技术方案实施完毕。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的