[实用新型]坩埚冷却装置有效
申请号: | 201220104435.7 | 申请日: | 2012-03-19 |
公开(公告)号: | CN202543304U | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
发明(设计)人: | 袁永旭;刘敏强 | 申请(专利权)人: | 北京北仪创新真空技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 102600 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 冷却 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜机坩埚,尤其涉及一种坩埚冷却装置。
背景技术
目前,镀膜机已经被广泛应用,制镀薄膜尤其广泛,其制作的各种薄膜被应用到各光电系统及光学仪器中,如数码相机、数码摄像机、望远镜、投影机、能量控制、光通讯、显示技术、干涉仪、人造卫星飞弹、半导体激光、微机电系统、信息工业、激光的制作、各种滤光片、照明工业、传感器、建筑玻璃、汽车工业、装饰品、钱币、眼镜片等等。
电子枪坩埚是镀膜机中加热源部件电子枪的容器。在镀膜机工作过程中,处在真空(空气极其稀薄)中的电子枪产生高能电子会使坩埚内温度升至700~3600℃,如此高的温度会使坩埚熔化而被破坏,为了避免这类情况发生,有效地冷却坩埚是一项关键技术。
如图1所示,为现有技术的坩埚冷却装置,其中箭头表示水流方向,冷却水由入水孔进入坩埚在注满坩埚冷却腔后,从中部水孔流向顶盘四周的通水孔,再由顶盘与坩埚顶部之间的空隙流回中心管,中心管下端的出水孔流出。由于水流粘性易在图示位置产生涡旋,从而不能有效地把坩埚产生的热量带走,在实际使用中,曾发生过由于冷却不足而使坩埚被破坏的情况。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种坩埚冷却装置。
本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:
本实用新型的坩埚冷却装置,包括坩埚冷却腔,所述冷却腔的下壁设有入水口,所述冷却腔的上部设有顶盘,所述顶盘的周边部位设有通水孔,所述顶盘的中部设有出水口,所述出水口通过中心管穿过所述冷却腔的下壁与外部相通,所述冷却腔内设有分水盘,所述分水盘将所述冷却腔分为上腔和下腔,所述上腔与下腔通过所述分水盘边缘部位的缺口相通,所述下腔与所述入水口相通。
由上述本实用新型提供的技术方案可以看出,本实用新型提供的坩埚冷却装置,由于冷却腔内设有分水盘,分水盘将所述冷却腔分为上腔和下腔,上腔与下腔通过分水盘边缘部位的缺口相通,下腔与入水口相通。水流由入水口流入,再经分水盘下方侧向流动,在缺口处流到分水盘上方,经热源侧壁流向上方顶盘的通水孔,经顶盘上方从中心管由出水口流出,使贴近坩埚加热部分的水流持续流动,携带走大量热量,从而保证了坩埚体不被破坏。
附图说明
图1为现有技术中的坩埚冷却装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的坩埚冷却装置的结构示意图;
图3为本实用新型实施例中分水盘的结构示意图;
图4为本实用新型实施例中的水流路径示意图。
图中:1、坩锅热源,2、顶盘,3、水流涡旋示意,4、中心管,5、入水口,6、出水口,7、侧壁开通孔部位,8、分水盘,9、立板,10、缺口。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型实施例作进一步地详细描述。
本实用新型的坩埚冷却装置,其较佳的具体实施方式是:
包括坩埚冷却腔,所述冷却腔的下壁设有入水口,所述冷却腔的上部设有顶盘,所述顶盘的周边部位设有通水孔,所述顶盘的中部设有出水口,所述出水口通过中心管穿过所述冷却腔的下壁与外部相通,所述冷却腔内设有分水盘,所述分水盘将所述冷却腔分为上腔和下腔,所述上腔与下腔通过所述分水盘边缘部位的缺口相通,所述下腔与所述入水口相通。
所述分水盘用螺钉固定在所述冷却腔的下壁上,所述入水孔与所述下腔之间的侧壁开通孔。
所述分水盘的周边部位固定有立板,所述立板的上缘抵在坩锅热源部位的下壁上。
具体实施例:
如图2所示,为提高水冷效率,在坩埚内增加一个如图3所示的分水盘,分水盘用螺钉固定在坩埚底部,同时将中部入水孔的侧向打通,使水流向径向流动。在分水盘上固定立板,可使水流流向坩埚正下方,同时支撑分水盘,使其不会发生振动。
如图4所示,为本实用新型具体实施例的坩埚冷却装置的水流路径,水流由入水口流入,再经分水盘下方侧向流动,在缺口处流到分水盘上方,经热源侧壁流向上方顶盘的通水孔,经顶盘上方从中心管由出水口流出,使贴近坩埚加热部分的水流持续流动,携带走大量热量,从而保证了坩埚体不被破坏。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。
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