[实用新型]胶泵

说明书

技术领域

本实用新型涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，特别涉及一种胶泵。 

背景技术

目前，半导体制造在光刻工艺中使用胶泵将光刻胶均匀涂敷于晶圆上完成光刻工艺的重要一环，还在许多其它工艺中广泛使用胶泵来完成诸多其它药液的涂布，如显影液分配、旋涂玻璃、扩散源涂布、聚酰亚胺涂布等等，每种工艺都要求胶泵在药液分配的精确计量、过程精确控制、重复精度、易操作和易维护等方面有极好的性能与表现。 

现有的胶泵体积较大。卡箍设于过滤单元的下部。更换滤芯时，先要拧开用螺丝固定的卡箍，然后将过滤单元倒过来，利用工具拔出滤芯，更换滤芯很不方便。 

实用新型内容

根据本实用新型的一个方面，提供了胶泵。其包括支架、泵体和过滤单元。所述泵体和过滤单元装设于支架上。所述过滤单元包括外壳和滤芯。还包括连接件。所述过滤单元的外壳为上下两部分，即第一部分和第二部分。所述连接件卡设于第一部分和第二部分的连接处。 

在一些实施方式中，所述外壳上下两部分连接处设于滤芯的上方。方便将第二部分取下，更换滤芯。 

在一些实施方式中，所述连接件采用U型螺栓卡箍。只需将螺栓拧开就能打开卡箍，简单便捷。 

在一些实施方式中，还包括微处理器控制单元，所述微处理器控制单元连接于泵体和过滤单元。能精准的控制胶泵，减少工作强度。 

在一些实施方式中，还包括手持终端，所述手持终端连接于微处理器控制单元。便于远距离控制。 

附图说明

图1为本实用新型一实施方式的胶泵的结构示意图； 

图2为本实用新型图1中连接件的结构示意图。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。 

图1示意性地显示了胶泵的结构示意图。胶泵，其包括支架1、泵体2和过滤单元3，还包括连接件4、微处理器控制单元5和手持终端6。 

泵体2和过滤单元3装设于支架1上。 

过滤单元3包括外壳和滤芯301。过滤单元3的外壳为上下两部分，即第一部分302和第二部分303。外壳上下两部分连接处设于滤芯301的上方。方便将第二部分303取下，更换滤芯。 

连接件4卡设于第一部分302和第二部分303的连接处。本实用新型中的连接件4采用U型螺栓卡箍。如图2所示，只需将螺栓拧开就能打开卡箍，简单便捷。 

微处理器控制单元5连接于泵体2和过滤单元3。能精准的控制胶泵，减少工作强度。 

手持终端6连接于微处理器控制单元5。便于远距离控制。 

本实用新型所述的胶泵，体积小巧。过滤单元3的滤芯301更换非常简单方便。泵体2连接有微处理器控制单元5，减少了工作人员的工作强度。还可以将胶泵安装在较远的地方，使用手持终端6方便地读取信息和进行操控。 

以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。