[实用新型]一种化学气相沉积炉进气分布装置有效
| 申请号： | 201220105946.0 | 申请日： | 2012-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN202543325U | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 刘玉清 | 申请（专利权）人： | 烟台鲁航炭材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 264006 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 炉进气 分布 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学气相沉积炉进气分布装置，包括炉体底板及设于所述炉体底板上的进气管，其特征在于，在所述进气管的上部设有导流罩，所述导流罩呈下部开口的圆桶形结构，所述导流罩上设有通孔。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉进气分布装置，其特征在于，所述导流罩的顶部设有通孔。
3.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉进气分布装置，其特征在于，所述导流罩的侧壁均布有通孔。
4.根据权利要求1、2或3所述的化学气相沉积炉进气分布装置，其特征在于，所述进气管的上部封闭，侧壁均布有气流孔。
5.根据权利要求1、2或3所述的化学气相沉积炉进气分布装置，其特征在于，所述导流罩由炭/炭复合材料制成。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
