[实用新型]磁性按键组合与键盘有效

专利信息
申请号: 201220114786.6 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN202736793U 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 刘家宏;孙长恩 申请(专利权)人: 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
主分类号: H01H13/02 分类号: H01H13/02;H01H13/20;H01H13/705
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 磁性 按键 组合 键盘
【说明书】:

技术领域

本实用新型有关于按键组合与键盘,尤其指一种利用磁力作为键帽复位驱动力的磁性按键组合。 

背景技术

目前市面上,除了使用触控面板的可携式装置外,就笔记型电脑的使用习惯而言,键盘仍为不可或缺的输入设备之一。但由于笔记型电脑薄型化的趋势,应用于笔记型电脑上的键盘亦随之有薄型化的需求。 

习知的按键内常设置有弹性元件,如橡胶碗体等,以作为按键施力解脱时键帽复位的弹力来源。然而,习知的弹性元件具有一定的高度,故按键需具有较大的高度空间以容纳弹性元件。换言之,习知的按键中因设置有弹性元件,故会限制键盘的结构尺寸设计,而不利于笔记型电脑的薄型化趋势。 

运用磁性元件的按键组合装置已被运用于一些按键产品的制作,相关的前案技术可参考台湾新型专利M416801、美国专利4453148。 

实用新型内容

本实用新型要解决的技术需求在于提供一种具有磁性元件的磁性按键组合,以降低按键组合的整体厚度。 

为解决上述需求,本实用新型提供了一种利用磁吸力以作为键帽受力之后复位所需的驱动力的按键组合。这种磁性按键组合包含键帽、支撑板、框体和开关元件,其中:键帽具有一支点,键帽以该支点为轴而转动,该键帽为可被磁性物质吸附的键帽;支撑板承载该支点;框体具有一空间容纳磁性元件,该磁性元件吸附该键帽;开关元件位于该键帽下方;其中,当该键帽未受力时, 该磁性元件吸附该键帽,该磁性按键组合处于断开态,当该键帽受一向下压力时,该键帽脱离该磁性元件的吸附,向下运动而致动该开关元件。 

作为可选的技术方案,该键帽下表面具有凸点,该凸点致动该开关。 

作为可选的技术方案,该键帽具有第一部份与第二部份,该第一部份致动该开关,该第二部份与该磁力元件相吸,其中,该第二部份靠近该支点。 

作为可选的技术方案,该键帽呈阶梯状。 

本实用新型还提供了一种磁性按键组合,包含键帽、框体、开关元件,其中该键帽具有一支点,键帽以该支点为轴而转动,该键帽具有第一磁性元件;框体具有一空间容纳第二磁性元件,该第二磁性元件与该第一磁性元件的极性互吸;开关元件,位于该键帽下方;其中,当该键帽未受力时,该第一磁性元件吸附该第二磁性元件,使该磁性按键组合处于断开态,当该键帽受向下压力并突破该第一磁性元件与该第二磁性元件间的吸力时,该键帽向下运动而致动该开关元件。 

作为可选的技术方案,该键帽与该第一磁性元件以模内射出方式结合。 

作为可选的技术方案,该框体与该第二磁性元件以模内射出方式结合。 

作为可选的技术方案,该键帽具有第一部份与第二部份,该第一部份致动该开关,该第二部份设有该第一磁性元件,其中该第二部份靠近该支点。 

作为可选的技术方案,该键帽呈阶梯状。 

本实用新型还提供了一种磁性按键组合,包含键帽、支撑板以及开关元件。其中,该键帽具有一支点,键帽以该支点为轴而转动,该键帽具有第一磁性元件;支撑板承载该支点,该支撑板具有一空间,容纳第二磁性元件,该第二磁性元件与该第一磁性元件的极性互斥;开关元件位于该键帽下方;其中,当该键帽未受力时,该第一磁性元件排斥该第二磁性元件,使该磁性按键组合处于断开态,当该键帽受一向下压力并突破该第一磁性元件与该第二磁性元件间的排斥力时,该键帽向下运动而致动该开关元件。 

作为可选的技术方案,该键帽与该第一磁性元件以模内射出方式结合。 

作为可选的技术方案,该键帽具有第一部份与第二部份,该第一部份致动该开关且该第一部分设有该第一磁性元件,该第二部份靠近该支点。 

作为可选的技术方案,该键帽呈阶梯状。 

本实用新型还提供了一种磁性按键组合,包含键帽、支撑板以及开关元件。其中,该键帽具有一支点,该键帽以该支点为轴而转动,该键帽具有第一磁性元件;支撑板承载该支点,且该支撑板对应该第一磁性元件处具有第二磁性元件,该第二磁性元件与该第一磁性元件的极性互斥;开关元件位于该键帽下方;其中,当该键帽未受力时,该第一磁性元件排斥该第二磁性元件,使该磁性按键组合处于断开态,当该键帽受一向下压力并突破该第一磁性元件与该第二磁性元件间的排斥力时,该键帽向下运动而致动该开关元件。 

作为可选的技术方案,该键帽下表面具有凸点,该凸点致动该开关。 

作为可选的技术方案,该键帽与该第一磁性元件以模内射出方式结合。 

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