[实用新型]大平片光谱测试仪的光学系统有效

专利信息
申请号: 201220115786.8 申请日: 2012-03-23
公开(公告)号: CN202512053U 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: 冯迈东 申请(专利权)人: 上海欣茂仪器有限公司
主分类号: G01N21/31 分类号: G01N21/31;G02B7/182
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 吴泽群
地址: 201103 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 大平片 光谱 测试仪 光学系统
【权利要求书】:

1.一种大平片光谱测试仪的光学系统,包括钨灯光源(1),钨灯光源(1)的光发散到第一球面镜(2)上,光从第一球面镜(2)反射出后,反射光路上装有入射光狭缝(3),光线经入射光狭缝(3)射出到第一反射镜(4),光被第一反射镜(4)反射后,进入反射光路上的第二球面镜(5),经由第二球面镜(5)反射光路上的光栅(6)色散后射至第三球面镜(7),光经第三球面镜(7)射出后进入装在射出光路上的出射光狭缝(8),光线从出射光狭缝(8)射出后射至滤光片(9),从滤光片(9)射出的单色光至第一透镜(10),单色光经第一透镜(10)射出后到达第二反射镜(11),从第二反射镜(11)射出的单色光通过射出光路上的测试样品台(12)后射至第二透镜(13),从第二透镜(13)射出的单色光最后到达接收器(14),其特征在于:

所述第二反射镜(11)与入射光成45°角。

2.如权利要求1所述的一种大平片光谱测试仪的光学系统,其特征在于:所述入射光狭缝(3)和出射光狭缝(8)都为可变超小圆形狭缝。

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