[实用新型]一种基坑盲沟构造有效

专利信息
申请号: 201220117208.8 申请日: 2012-03-17
公开(公告)号: CN202530466U 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 孔蕾蕾 申请(专利权)人: 孔蕾蕾
主分类号: E02D19/10 分类号: E02D19/10;E02D19/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325604 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基坑 构造
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种基坑盲沟构造,适用于基础领域。

背景技术

深基坑施工过程中,经常存在地下水水位已降至基底标高以下,但基底或四周仍存在少量渗水等情况,影响到基础结构施工,采用常规降水措施无法满足施工要求。通过设置盲沟对水流进行引导,将流水朝某一特定的方向集中,然后抽出基坑,保证施工正常进行。

实用新型内容

本实用新型解决的技术问题是提供一种基坑盲沟构造,解决传统基坑排水不畅的问题。

本实用新型包括集水井、排水沟、护坡。基坑护坡内侧做盲沟,盲沟宽度为20~30cm,盲沟内填充卵石,卵石粒径小于4cm,集水井布置在基坑四角或每隔30~40m设置,集水井底面比盲沟低0.5m。

本实用新型简单实用。

附图说明

图1基坑盲沟构造示意图,图2盲沟示意图。

附图标记:1、集水井,2、盲沟,3、护坡。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型进行详细描述。

图1为基坑盲沟构造示意图,图2为盲沟示意图。本实用新型包括集水井1、排水沟2、护坡3。基坑护坡3内侧做盲沟2,盲沟2宽度为25cm,盲沟2内填充卵石,卵石粒径小于4cm,集水井1布置在基坑四角或每隔40m设置,集水井1底面比盲沟2低0.5m。

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