[实用新型]一种半导体薄膜材料的真空蒸发设备有效
| 申请号： | 201220124041.8 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN202543301U | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 杨耀武;苏晓燕;苏怡 | 申请（专利权）人： | 常熟卓辉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215500 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 薄膜 材料 真空 蒸发 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体薄膜材料的真空蒸发设备，包括真空室(1)和真空室(1)内的蒸发器(7)，其特征在于：所述蒸发器(7)下方设置有主动轴(2)和从动轴(3)，所述主动轴(2)带动从动轴(3)上的半导体薄膜材料基材(8)通过蒸发器(7)下的蒸发区，并对通过蒸发区的半导体薄膜材料基材(8)进行卷取。
2.根据权利要求1所述的半导体薄膜材料的真空蒸发设备，其特征在于：在所述主动轴(2)和从动轴(3)之间设置有冷却辊(4)，所述冷却辊(4)两边设置有托辊(5)，从动轴(3)上的半导体薄膜材料基材(8)在托辊(5)与冷却辊(4)之间穿过与主动轴(2)连接。
3.根据权利要求2所述的半导体薄膜材料的真空蒸发设备，其特征在于：在所述冷却辊(4)的上方设置有隔板(6)，所述隔板(6)将蒸发器(7)的蒸发区隔离。
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