[实用新型]一种离线可钢低辐射镀膜玻璃

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃，特别是一种离线可钢低辐射镀膜玻璃。 

背景技术

现有普通离线低辐射镀膜玻璃由于膜系配置采用其他的材料，膜层耐侯性、耐酸碱性都较差，膜层质软，容易氧化，且很难实现异地加工。离线可钢低辐射镀膜玻璃，采用氮化硅Si₃N₄膜层作为保护层，其对氧气具有很低的扩散系数，有较好的稳定性，针孔密度非常低。磁控溅射沉积的氮化硅膜层致密、平整且硬度很高，对可动离子有非常强的阻挡能力，在1200℃时不发生氧化，有较好的抗蚀性，所以，使用Si₃N₄膜层作为离线可钢低辐射镀膜玻璃的顶层保护膜，实现离线可钢低辐射镀膜玻璃耐高温的性能，从而实现远程异地化的切割、磨边、钢化、中空等后续加工。 

发明内容

本实用新型的目的是为了克服普通离线低辐射镀膜玻璃不能进行热处理的不足，提供一种够很强的阻隔红外线，具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工的离线可钢低辐射镀膜玻璃。 

本实用新型的目的通过以下技术方案来实现：一种离线可钢低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，玻璃基片上依次设有第一氮化硅Si₃N₄层、金属镍铬NiCr层、金属银Ag层、金属镍铬NiCr层、第二氮化硅Si₃N₄层。玻璃基片的厚度为3mm～15mm，第一氮化硅Si₃N₄层的厚度为35nm～45nm，金属镍铬NiCr层的厚度为1.5～2.5nm，金属银Ag层的厚度为6～10nm，金属镍铬NiCr层的厚度为2～2.5nm，第二氮化硅Si₃N₄层的厚度为55～65nm。

本实用新型的进一步改进在于：所述玻璃基片的厚度为3mm～15mm，所述第一氮化硅Si₃N₄层的厚度为37nm，金属镍铬NiCr层的厚度为1.9nm，金属银Ag层的厚度为8nm，金属镍铬NiCr层的厚度为2.1nm，第二氮化硅Si₃N₄层的厚度为57nm。

本实用新型与现有技术相比具有以下优点：离线可钢低辐射镀膜玻璃的顶层采用扩散系数很低的氮化硅Si₃N₄作为保护层，能够使膜层在钢化炉中进行热处理而不使膜层破坏，且保持了原有热工性能，同时将原片也进行了钢化处理，而且生产出来的离线可钢低辐射镀膜玻璃能够很强的阻隔红外线、具有很好的隔热功效，同时也能实现异地化后续深加工。

附图说明：

图1为本实用新型的结构示意图；

图中标号：1-玻璃基片、2-第一氮化硅Si₃N₄层、3-金属镍铬NiCr层、4-金属银Ag层、5-金属镍铬NiCr层、6-第二氮化硅Si₃N₄层。

具体实施方式：

    为了加深对发明的理解，下面将结合实施例对本实用新型作进一步详述，该实施例仅用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型保护范围的限定。

如图1所示，本实用新型离线可钢低辐射镀膜玻璃的一种实施方式为：离线可钢低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片1，玻璃基片1上依次设有第一氮化硅Si₃N₄层2、金属镍铬NiCr层3、金属银Ag层4、金属镍铬NiCr层5、第二氮化硅Si₃N₄层6。玻璃基片1的厚度为3mm～15mm，第一氮化硅Si₃N₄层2的厚度为35nm～45nm，最佳厚度为37nm，金属镍铬NiCr层3的厚度为1.5～2.5nm，最佳厚度为1.9nm，金属银Ag层4的厚度为6～10nm，最佳厚度为8nm，金属镍铬NiCr层5的厚度为2～2.5nm，最佳厚度为2.1nm，第二氮化硅Si₃N₄层6的厚度为55～65nm，最佳厚度为57nm。

实施例1：