[实用新型]一种多光源干涉光电系统有效

专利信息
申请号: 201220127019.9 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN202494462U 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 杨峰;毛文进 申请(专利权)人: 苏州攀星光电科技有限公司
主分类号: G01D5/353 分类号: G01D5/353
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 汪旭东
地址: 215500 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光源 干涉 光电 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及光纤传感技术,具体涉及光纤干涉信号的测量系统。

背景技术

本实用新型主要基于光学干涉原理。该光纤干涉系统是在同一光纤,即光学闭合回路中两束沿正反方向传播的来自同一激光源的光形成干涉。当光学闭合回路受到外界扰动时,沿正反方向传播的光程将受到影响。尽管两路光受到的影响是一样的,这种影响到达探测器的时间却不一样。探测器上测到的干涉光强将受到影响,从而引起相应的变化响应。

以传统的光学闭合回路干涉环为例,如图1所示,激光器发出的光经1x2耦合器汇合后至2x2耦合器分顺时针和逆时针两个方向进入光学闭合回路,经过扰动信号感应光纤及2x2耦合器再汇合到探测器形成干涉信号。任何扰动施加到光学闭合回路上,都会引起传播光的相位的变化Φ(t),而这个变化到达探测器的时间差由扰动发生在光学闭合回路上的位置和光学闭合回路的长度决定。时间差越大,探测器探测到的干涉电流变化越大

I(t)=I0(2-2cos(ΔΦ(t)+Φ0)),            (1)

上式中ΔΦ(t)=Φ(t-t1)-Φ(t-t2),L1为光学闭合回路中扰动点顺时针方向到2x2耦合器的距离,L2为光学闭合回路中扰动点逆时针方向到2x2耦合器的距离,c为光在光纤中传播的速度,I0为无干涉时探测器从耦合器的一个输出端接受到的光强,Φ0是初始相位差,2x2耦合器将带来的相差,但是光纤中的双折射效应也会影响到Φ0

当ΔΦ较小时,干涉光强的变化为

ΔI(t)≈2I0sin(Φ0)ΔΦ(t)+I0cos(Φ0)(ΔΦ(t))2        (2)

由于2x2耦合器的特性,在不考虑光纤中的双折射效应时Φ0=π,上式右边的第一项消失,因此光学闭合回路中光纤干涉系统对微小扰动的响应是扰动的平方,而不是线性响应,较难观测到干涉信号的变化。

该光学闭合回路通常用单模光纤作传感光纤,施工布置中光纤会受压弯曲,其中的双折射效应是不可避免的,这种双折射效应将会影响Φ0的值。光学闭合回路干涉环的这种特性使得其干涉信号的强弱也受组成光学闭合回路的光纤中的双折射效应影响,会使光学闭合回路中的两路相反方向的光经历不同的光程,尽管它们重新汇合后仍然有相同的偏振态。

光纤中的双折射效应受安装时光纤扭曲曲率、温度变化、施加于光纤上的压力等因素的影响。所以既使相同的扰动施加于同样的两个系统,观察到的信号强弱也不会相同。同一个系统在不同的时间,如在白天和在晚上,温差使得相同的扰动也会测得不同强弱的信号。有时甚至观察不到扰动信号。这将使得系统不能稳定可靠地工作。

上述问题,是所有应用干涉原理的光纤系统都不可避免的问题;这些因素会造成光纤干涉信号不稳定、信噪比变差、系统的漏报率及误报率增高等一系列问题。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术存在的不足,而提供一种测量光纤干涉信号的光电探测系统,它具有光纤干涉信号稳定、信噪比得到明显改善的优点。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种多光源干涉光电系统,包括至少两个不同波长的激光光源、光电探测器、前级光纤耦合器、后级光纤耦合器和传感光纤,其中前级光纤耦合器至少有一边的端口数不少于激光光源的数量,后级光纤耦合器为2X2光纤耦合器;传感光纤的两端分别与后级光纤耦合器的两个同向端口相连接以组成光学闭合回路,各激光光源分别连接到前级光纤耦合器的同一边,前级光纤耦合器另一边的一个端口和光电探测器分别连接到后级光纤耦合器的另一边;各激光光源发出的光经前级光纤耦合器汇合到后级光纤耦合器,再分顺时针和逆时针两个方向进入光学闭合回路,经过传感光纤感受扰动信号后回到后级光纤耦合器形成干涉信号,由光电探测器接收。

优选的是,所述前级光纤耦合器为1X2光纤耦合器,所述不同波长的激光光源的数量为2个。

优选的是,所述后级光纤耦合器分束比为1∶1,所述传感光纤为单模光纤。

本实用新型的有益效果是:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州攀星光电科技有限公司,未经苏州攀星光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220127019.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top