[实用新型]真空镀膜用的离子轰击结构

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及真空镀膜用的工件清洗结构。

背景技术

随后出现有物理气相沉积（PVD）技术，主要是在真空环境下进行表面处理，物理气相沉积本身分为三种：真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜，近十年来发展相当快，已经成为当今最先进的表面处理方式之一。真空镀膜生产是实现膜层附着在工件表面，以获得需要的工件表面特性，然而，在实际生产时，工件表面都或多或少积累有污垢，这些污垢如不能有效除去，则会极大的影响膜层附着力，导致产品品质下降。因而需要进行清洁，但传统的方式是采用人工擦洗，这不仅增加了劳动量和生产成本，且生产率低，存在清洁不彻底的缺陷。

为此，本申请人迎合市场发展的需求，秉持着研究创新、精益求精之精神，利用其专业眼光和专业知识，研究出一种适于产业利用，有助于生产连续性的真空镀膜用的离子轰击结构。

发明内容

本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种真空镀膜用的离子轰击结构，结构简单，成本低，清洁方便、快捷。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

真空镀膜用的离子轰击结构，其包括有轰击棒，轰击棒后端与电极连接，电极与电缆电性连接，电极通过绝缘套固定安装在相应的载体。

所述轰击棒与电极同轴设置，轰击棒与电极之间通过螺纹连接。电极与电缆连接的一端设有螺纹段，螺纹段连接的螺母固定电缆与电极的连接。

上述方案进一步改进是：在轰击棒与电极螺纹连接的部位设有U型护套。

本实用新型设计的真空镀膜用的离子轰击结构，可实现轰击棒通电配合氩气产生放电获得等离子，并以等离子撞击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，结构简单，科学合理，投资成本低，体积小巧，安装、使用方便，大大提升工件表面清洁的效率和质量，从而提升真空镀膜的功效和品质。

附图说明：

附图1为本实用新型的较佳实施例结构示意图。

具体实施方式：

以下结合附图对本实用新型进一步说明：

参阅图1所示，本实用新型所述的

真空镀膜用的离子轰击结构，其包括有轰击棒1，轰击棒1为一铝棒；轰击棒1后端与电极2连接，电极2与电缆电性连接，电极2通过绝缘套4固定安装在相应的载体3。本实施例中，电极2为柱状，轰击棒1与电极2同轴设置，轰击棒1与电极2之间通过螺纹连接，结构简单，安装方便。电极2与电缆连接的一端设有螺纹段21，螺纹段21连接的螺母5固定电缆与电极2的连接。在轰击棒1与电极2螺纹连接的部位设有U型护套6 ，U型护套6有效阻隔等离子，保护轰击棒1的连接部位及电极2，延长使用寿命。

本实用新型是为了在真空镀膜中清洗工件表面，增加膜层的附着力而设计。工作时，将本实用新型安装于真空室，当真空室的真空度达到0.05Pa的时候，再向真空室内充氩气到1Pa，这时打开电源，把5KV的直流电压通过螺母5所固定的电缆加载在电极2上，在氩气的作用下，轰击棒1产生辉光放电而产生等离子，高能的等离子则会撞击工件表面，使工件表面的污垢离化，从而达到清洁的功效，结构简单，科学合理，投资成本低，体积小巧，安装、使用方便，大大提升工件表面清洁的效率和质量，从而提升真空镀膜的功效和品质。

当然，以上图示仅为本实用新型的较佳实施例，并非以此限定本实用新型的实施范围，故，凡是依照本实用新型之原理做等效变化或修饰，均应涵盖于本实用新型的保护范围内。