[实用新型]一种纳米图形化系统及其磁场施加装置

权利要求书

1.一种纳米图形化系统的磁场施加装置，其特征在于，包括电源、磁场产生装置和一对用以对所述样品台上的样品进行定位以及局域磁场的施加的磁极，所述磁场产生装置包括线圈和导磁软铁芯，所述电源与所述线圈连接，所述线圈缠绕在所述导磁软铁芯上以产生磁场，所述导磁软铁芯为半闭合框形结构，所述磁极分别安装在所述半闭合框形结构的两末端，所述纳米图形化系统的真空腔内设置有样品台，所述磁极相对于所述样品台设置在所述真空腔内，所述线圈和所述导磁软铁芯设置在所述真空腔外，所述导磁软铁芯将所述线圈产生的磁场引导入所述真空腔内。

2.如权利要求1所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁极为伸缩式结构，所述伸缩式结构的磁极相对于所述样品台分别具有一伸出位置和收回位置。

3.如权利要求1所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁极通过一波纹管与所述导磁软铁芯的末端连接，所述磁极相对于所述样品台分别具有一伸出位置和收回位置。

4.如权利要求1所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁极为探针式结构，所述探针式结构的端部具有一向下弯曲的弧度。

5.如权利要求1所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁极为能施加大范围均匀磁场的薄片式结构，所述薄片式结构的磁极的上表面具有一下凹的弧面。

6.如权利要求1、2、3、4或5所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁场施加装置还包括一实现对所述样品的定位以及局域电场的施加的电场施加装置，所述电场施加装置包括电场施加电源和绝缘体，所述绝缘体分别设置在所述导磁软铁芯和所述磁极之间，所述电场施加电源分别与所述磁极连接。

7.如权利要求6所述的磁场施加装置，其特征在于，所述电场施加电源为能实现直流电场或交流电场的施加的直流或交流电压。

8.如权利要求7所述的磁场施加装置，其特征在于，所述导磁软铁芯和所述磁极均为能减少所述真空腔内的杂散场的非磁性导磁材料。

9.如权利要求7所述的磁场施加装置，其特征在于，所述磁极的尖端为平面结构、球面结构或凹陷的弧面结构。

10.一种纳米图形化系统，包括真空腔、样品台和磁场施加装置，所述样品台设置在所述真空腔内，所述磁场施加装置对应于所述样品台设置，其特征在于，所述磁场施加装置为上述的权利要求1、2、3、4、5、7、8或9所述的磁场施加装置。