[实用新型]可视区无金属线的电容式触摸屏玻璃盖板有效

专利信息
申请号: 201220145764.6 申请日: 2012-04-09
公开(公告)号: CN202548812U 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 沈励;陈奇;石富银;许沐华;吴克坚 申请(专利权)人: 天津美泰真空技术有限公司
主分类号: G06F3/044 分类号: G06F3/044
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 代理人: 张金亭
地址: 301609 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 可视 金属线 电容 触摸屏 玻璃 盖板
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种触摸屏玻璃盖板,特别是涉及一种在可视区无金属线显现的电容式触摸屏玻璃盖板。

背景技术

目前市场上主流的以玻璃基材为主的投射式电容触摸屏面板的构成多采用将触控玻璃(Touch Sensor)与盖板玻璃(Cover Glass)贴合在一起的产品。这种设计的主要问题是工艺复杂,成本高,组件厚度太厚,重量太重,贴合良率低。已经越来越不适应电子数码产品更轻更薄更廉的发展方向。另外由于采用的是两片玻璃的贴合,整个电容式触摸屏组件的透光性较差,无法满足高清液晶显示屏的要求,在户外使用效果更差。各个触控玻璃(Touch sensor)的制造商纷纷推出一片触控盖板玻璃的方案,将传统的触控玻璃和盖板玻璃贴合在一起的触摸屏变成一片触控盖板玻璃的触摸屏。而由于是一片玻璃的触控方案,其触控的表面是在触控盖板玻璃的内表面,按照单面触控玻璃的方案,中间会有规则的金属线,宽度5-20微米,长度50-300微米不等,虽然不影响外观,但是大多数消费者都很难接受极易看到这些可视区的金属线。

实用新型内容

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在可视区无金属线的电容式触摸屏玻璃盖板。

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:一种可视区无金属线的电容式触摸屏玻璃盖板,包括钢化浮法玻璃基板,在所述基板的任一表面上形成有遮挡X行电极单元连接导线的着色图形,所述着色图形上覆盖有SiO2膜,所述SiO2膜上形成有多个分离的Y列电极,所述Y列电极的两侧均为与其分离的X行电极单元,X行电极单元左右成行,前后成列,在相邻的两列所述X行电极单元之间涂布有一层有机绝缘材料层,所述X行电极单元通过X行电极单元连接导线连接形成X行电极,所述X行电极单元连接导线是由导电膜刻蚀形成的,并且设置在所述有机绝缘材料层之上;所述X行电极和所述Y列电极上覆盖有有机透明绝缘材料层。

所述着色图形是黑色的。

所述SiO2膜的厚度为10nm-100nm。

在相邻的两列所述X行电极单元之间涂布的所述有机绝缘材料层是有机着色绝缘材料层。

在相邻的两列所述X行电极单元之间涂布的所述有机绝缘材料层的厚度为5-20微米。

所述导电膜为钼铝钼膜。

所述X行电极单元和所述Y列电极的表面电阻为300~500Ω/口。

本实用新型具有的优点和积极效果是:通过采用着色图形遮挡X行电极单元连接导线的结构,使可视区没有金属线显现,提高了可视区的可视质量;同时,该盖板采用一片玻璃的结构,不仅解决了两片玻璃造成的工艺复杂,结构复杂的问题,也降低了投射光的反射率,从而使显示更清晰;并且本实用新型能够降低生产成本,提高生产效率,使电容式触摸屏组件向更轻薄更易于携带方面发展。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型Y列电极和X行电极单元的分布图。

图中:1、基板,2、着色图形,3、SiO2膜,41、Y列电极,42、X行电极单元,5、有机着色绝缘材料层,6、X行电极单元连接导线。

具体实施方式

为能进一步了解本实用新型的发明内容、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下:

请参阅图1,一种可视区无金属线的电容式触摸屏玻璃盖板,包括钢化浮法玻璃基板1,在所述基板1的任一表面上形成有遮挡X行电极单元连接导线的着色图形2,所述着色图形2上覆盖有SiO2膜3,所述SiO2膜3上形成有多个分离的Y列电极41,所述Y列电极41的两侧均为与其分离的X行电极单元42,X行电极单元42左右成行,前后成列,在相邻的两列所述X行电极单元42之间涂布有一层有机绝缘材料层5,所述X行电极单元42通过X行电极单元连接导线6连接形成X行电极,所述X行电极单元连接导线6是由导电膜刻蚀形成的,并且设置在所述有机绝缘材料层5之上;所述X行电极和所述Y列电极上覆盖有有机透明绝缘材料层。

上述玻璃盖板的制作方法包括以下步骤:

一)采用钢化浮法玻璃作为基板1,在基板1的任一表面上按照X行电极单元连接导线6的布线图,利用光刻的方法形成遮挡X行电极单元连接导线的着色图形2,该着色图形2最好是黑色的,也可以是红橙黄绿青蓝紫中的任一颜色;

二)采用真空镀膜的方法在基板1上形成SiO2膜3,SiO2膜3覆盖在着色图形2上,SiO2膜3的厚度为10nm-100nm;

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