[实用新型]一种立体足迹数字化提取系统有效

专利信息
申请号: 201220146187.2 申请日: 2012-03-31
公开(公告)号: CN202458377U 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 徐旭;王国建;谭重建 申请(专利权)人: 大连恒锐科技股份有限公司
主分类号: A61B5/117 分类号: A61B5/117;G06T1/00
代理公司: 北京元中知识产权代理有限责任公司 11223 代理人: 王明霞
地址: 116023 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 立体 足迹 数字化 提取 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及信息处理技术领域,特别是一种能够将三维立体足迹进行数字化采集提取、显示、比对的系统。

背景技术

立体足迹是犯罪现场遗留率最高的一类痕迹,是犯罪现场最常见的痕迹证据之一,为了准确量化的获取犯罪现场的足迹信息,中国专利CN101268945A,公开日期2008年9月24日,公开了一种现场立体足迹数字化综合处理系统,该专利中介绍了采集并处理立体足迹的方法。但是在实际现场操作过程中,该技术存在使用和携带不方便的缺点。

实用新型内容

为了解决现有技术中采集立体足迹的设备携带使用不便的技术问题,本实用新型提供一种立体足迹数字化提取系统,该系统将多种必备设备集成在一起,所以能够在最大程度上方便基层刑侦人员使用。

本实用新型为解决其技术问题采用的技术方案是:一种立体足迹数字化提取系统,其特征在于:包括支架,与支架连接的一台摄像机和一台投影机,与摄像机和投影机连接的电源和计算机。

优选摄像机的成像光轴和投影机的投影光轴相互平行,摄像机的成像透镜偏心设置。

优选摄像机的成像光轴和投影机的投影光轴相互平行,投影机的投影透镜偏心设置。

优选摄像机的成像光轴和投影机的投影光轴相互平行,摄像机的成像透镜和投影机的投影透镜均偏心设置。

优选投影透镜和成像透镜与被测足迹之间的物距能够调节,投影透镜和成像透镜之间的距离能够调节,投影视场光学中心与成像视场光学中心在物距位置重合,投影视场与成像视场在物距位置完全重叠。

优选摄像机为数字式CCD摄像机。

优选投影机为数字式投影机。

优选电源为电池,或充电电池。

优选支架为三脚架,在支架的顶部下端设置有防护箱,摄像机、投影机和电源设置在防护箱内。

优选支架为三脚架,计算机设置在三脚架的上端。

本实用新型的有益效果是:该系统自动化程度高,使用携带方便,适合野外作业,提高了采集效率,扩大了应用范围。

附图说明

下面结合附图对本实用新型所述的立体足迹数字化提取系统作进一步详细的描述。

图1是本实用新型所述立体足迹数字化提取系统的立体示意图。

图2是成像透镜偏心设置的示意图。

图3是投影透镜偏心设置的示意图。

图4是成像透镜和投影透镜均偏心设置的示意图。

其中1.支架,2.摄像机,3.投影机,4.电源,5.计算机,7.防护箱,21.成像光轴,22.成像透镜,31.投影光轴,32.投影透镜,33.投影视场。

具体实施方式

如图1所示,一种立体足迹数字化提取系统,包括支架1,与支架连接的一台摄像机2和一台投影机3,与摄像机2和投影机3连接的电源4和计算机5。

摄像机和投影机用于采集足迹的三维特征信息,采集的信息由计算机5处理并显示三维图像,电源4为包括上述的三个装置供电,另外,上述所有装置均与支架连接,收起支架可以很方便的携带该系统,所以该系统自动化程度高,使用和携带方便,适合野外作业,提高了采集效率,扩大了应用范围,能够提高广大基层刑侦人员的工作效率。

普通的摄像机和投影机在采集的过程中投影光轴与成像光轴成一定角度,被测物体上凸起的部分会遮挡光线,使投影条纹投射不到某些区域,在成像装置上形成阴影区,从而造成了阴影部分的数据无法采集。为了提高立体足迹的精度,摄像机2的成像光轴21和投影机3的投影光轴31相互平行,摄像机2的成像透镜22偏心设置,如图2。或者摄像机2的成像光轴21和投影机3的投影光轴31相互平行,投影机3的投影透镜32偏心设置,如图3。或者摄像机2的成像光轴21和投影机3的投影光轴31相互平行,摄像机2的成像透镜和投影机3的投影透镜均偏心设置,如图4。

为了提高三维图像的利用率,投影透镜32和成像透镜22与被测足迹之间的物距能够调节,投影透镜和成像透镜之间的距离能够调节,投影视场光学中心与成像视场光学中心在物距位置重合,投影视场33与成像视场在物距位置完全重叠,如图2、图3和图4。这样整个视场中的数据都可以被采集到。

摄像机2为数字式CCD摄像机,投影机3为数字式投影机。使用时先开启投影机,由计算机控制其发出条纹光,及面结构光,然后摄像机采集具有足迹表面高度的特征信息,再通过格雷码技术和相移技术转化成点云数据,最后计算机再将其转换为三维图像。

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