[实用新型]一种高介电材料多孔结构电容有效

专利信息
申请号: 201220161667.6 申请日: 2012-04-17
公开(公告)号: CN202796464U 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 符建 申请(专利权)人: 符建
主分类号: H01G11/26 分类号: H01G11/26;H01G11/86
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 张法高
地址: 310012 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 高介电 材料 多孔 结构 电容
【权利要求书】:

1.一种高介电材料多孔结构电容,其特征在于包括多孔金属高介电材料复合基板(1),低熔点金属介质(2),密封容器(3),正电极(4),负电极(5);多孔金属高介电材料复合基板(1)是在泡沫金属骨架(6)表面上沉积一层或多层高介电材料(7)形成的多孔材料,多孔金属高介电材料复合基板(1)浸润在低熔点金属介质(2)中,并且被封装在密封容器(3)里,多孔金属高介电材料复合基板(1)与正电极(4)相连,导电液体介质(2)与负电极(5)相连,形成蓄积电能的电容器;所述的高介电材料(7)为BaTiO3或CaCu3Ti4O12高介电系数材料,或者两种材料交替叠加而成;所述的低熔点金属介质(2)是镓、铟、锌、锡、镁、铜或金一种或多种。

2.如权利要求1所述的一种高介电材料多孔结构电容,其特征在于所述的泡沫金属骨架(6)的材料为多孔泡沫态的铜、镍、钛或铝。

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