[实用新型]掩膜片、使用该掩膜片的叠层片及照光装置有效
申请号: | 201220165983.0 | 申请日: | 2012-04-18 |
公开(公告)号: | CN202600624U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 杉浦琢郎;石森五音 | 申请(专利权)人: | 阿尔卑斯电气株式会社 |
主分类号: | G06F3/02 | 分类号: | G06F3/02;H01H13/83;F21V8/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 夏斌;陈萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 膜片 使用 叠层片 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种使用了能够透射光的掩膜片的照光装置,尤其是关于使用了无漏光且能够提高亮度的掩膜片的照光装置。
背景技术
现今,在电子设备中,为了容易通过目视来观察电子设备的使用状态(例如电源被接通还是被切断等),而使其一部分点亮的设备较多。为了使一部分点亮,而使用从共通的光源导光而对多个部位进行照光的照光装置。为容易通过目视来观察,而要求以充分的亮度点亮并且不会因漏光而本来不点亮的部位点亮的照光装置。
作为这种照光装置,已知有下述专利文献1记载的照光装置。以下,使用图8说明专利文献1记载的照光装置。图8是表示专利文献1记载的照光装置LS(键盘装置KB)的结构的截面图。
专利文献1记载的照光装置LS为,如图8所示,用于在设置于底板BD之上的膜片叠层体ML上设置了触点输入部SW的键盘装置KB,键头KT的一部分点亮。照光装置LS具有:发光二极管装置LE;作为膜片叠层体ML的一部分的、具有透光性的按压片PS;形成在按压片PS的一部分上的反射区域RE;以及掩膜片MS。发光二极管装置LE被配置在面向按压片PS的某一个端面的位置上,掩膜片MS配置在按压片PS的上方。另外,在掩膜片MS中,在与反射区域RE相对置的部位上设置有具有透光性的透光部CZ,在透光部CZ所设置的部位的上方配设有键头KT。
专利文献1:日本特开2010-218996号公报
专利文献1记载的照光装置LS为,从发光二极管装置LE发出的光LI在按压片PS的内部传播,当到达反射区域RE时,被向配置有掩膜片MS的方向反射,并向按压片PS的外侧射出。向按压片PS的外侧射出的光通过透光部CZ到达键头KT。如此成为通过对键头KT进行照光而键头KT的一部分点亮的构成。
但是,专利文献1记载的照光装置LS为,入射到掩膜片MS的光,在形成掩膜片MS的一部分的按压片PS内传播到掩膜片MS的端部,可能会从掩膜片MS的端部发生漏光。
实用新型内容
本实用新型为了解决上述课题,而提供一种使用了无漏光且能够提高亮度的掩膜片的照光装置。
技术方案1记载的掩膜片为,面向外部的光源而配设,能够透光来自所述光源的光,其特征在于,具有由含有能够反射光的颜料的材料形成、具备透光性的基体材料,在所述基体材料的一个面上形成有深暗色的第一遮光层,在所述基体材料的另一个面上形成有深暗色的第二遮光层,在所述第一遮光层上形成有露出所述基体材料的第一露出部,在面向所述光源配设的所述第二遮光层上,在与所述第一露出部对应的部位形成有露出所述基体材料的第二露出部,并且在与所述光源相对置的部位形成有露出所述基体材料的第三露出部。
技术方案2记载的掩膜片的特征在于,所述基体材料的光的透射率为40±10%。
技术方案3记载的掩膜片的特征在于,在所述基体材料和所述第一遮光层之间形成有具备透光性的半透层,通过所述第一露出部而露出所述半透层。
技术方案4记载的叠层片为,具有能够对来自外部的光源的光进行导光的导光片和能够透射来自所述光源的光的掩膜片,所述掩膜片叠层在所述导光片之上,所述掩膜片以覆盖所述光源的上方的方式配置,并且所述导光片的端面面向所述光源而配设,其特征在于,所述掩膜片具有由含有能够反射光的颜料的材料形成、具备透光性的基体材料,在所述基体材料的一个面上形成有深暗色的第一遮光层,在所述基体材料的另一个面上形成有深暗色的第二遮光层,在所述第一遮光层上形成有露出所述基体材料的第一露出部,在面向所述光源及所述导光片而配设的所述第二遮光层上,在与所述第一露出部对应的部位形成有露出所述基体材料的第二露出部,并且在与所述光源相对置的部位形成有露出所述基体材料的第三露出部。
技术方案5记载的叠层片的特征在于,所述基体材料的光的透射率为40±10%。
技术方案6记载的叠层片的特征在于,在所述基体材料和所述第一遮光层之间形成有具备透光性的半透层,通过所述第一露出部而露出所述半透层。
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