[实用新型]一种抛光过程中的陶瓷盘接引盘有效

专利信息
申请号: 201220177576.1 申请日: 2012-04-24
公开(公告)号: CN202574297U 公开(公告)日: 2012-12-05
发明(设计)人: 张世波;徐国科;胡孟君;卢峰;刘建刚;李方虎;周明飞;林晓华 申请(专利权)人: 浙江金瑞泓科技股份有限公司
主分类号: B62B3/00 分类号: B62B3/00
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 宋缨;孙健
地址: 315800 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 过程 中的 陶瓷 接引
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及硅片抛光技术领域,特别是涉及一种抛光过程中的陶瓷盘接引盘。

背景技术

目前硅片抛光领域,陶瓷盘的搬运方式有两种,分别为手动式和自动式两种,而且两种方式各有优劣,手动方式加工成本低廉,但作业人员工作强度增大,而且造成产品质量不稳定,受人为因素影响大,而自动方式相对质量稳定,但其投资成本高,加工效率低下。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种抛光过程中的陶瓷盘接引盘,使得产品质量稳定,同时降低作业人员工作强度。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:提供一种抛光过程中的陶瓷盘接引盘,包括陶瓷盘,还包括水槽和推车,所述水槽底部设有安装所述陶瓷盘的安装座;所述推车上部设有用于放置所述水槽的平台。

所述水槽底面开有排水孔;所述排水孔与设有阀门的排水管相连。

所述水槽的壁厚为5-10mm。

所述水槽采用PVC材料制成。

所述推车采用不锈钢材料制成。

有益效果

由于采用了上述的技术方案,本实用新型与现有技术相比,具有以下的优点和积极效果:本实用新型利用接引设计可有效解决抛光结束后硅片表面因为抛光液腐蚀而产生的腐蚀坑或者表面沾污,同时通过推车方便操作人员人工搬运陶瓷盘,降低作业人员的劳动强度。其中,在PVC水槽内还设有排水管道,便于槽内排水,可以方便地控制水位。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例,进一步阐述本实用新型。应理解,这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解,在阅读了本实用新型讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

本实用新型的实施方式涉及一种抛光过程中的陶瓷盘接引盘,如图1所示,包括陶瓷盘1,还包括水槽2和推车7,所述水槽2底部设有安装所述陶瓷盘1的安装座3;所述推车7上部设有用于放置所述水槽2的平台。其中,水槽2可以采用PVC材料制成,水槽2的壁厚为5-10mm为宜。推车7可采用不锈钢材料制作,其中,不锈钢板材的厚度约5mm。本实用新型将加工完成的陶瓷盘1放置在水槽2的安装座中,并将水槽2置于推车7上部的平台上,水槽2底部开有排水孔4,排水孔4内植入带有阀门6的排水管5,可以方便控制槽内水液位。

不难发现,通过本实用新型可有效解决抛光结束后硅片表面因为抛光液腐蚀而产生的腐蚀坑或者表面沾污,提升硅片抛光后产品质量的一致性,降低硅片表面沾污和腐蚀的风险,同时可大幅提升降低抛光作业人员的劳动强度。

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