[实用新型]银含浸循环系统有效

专利信息
申请号: 201220179499.3 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN202527705U 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 章海波;吴烈;陆晓春 申请(专利权)人: 基美电子(苏州)有限公司
主分类号: B22F3/26 分类号: B22F3/26;B22D45/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 215021 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 银含浸 循环系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及铸造行业,尤其是涉及一种银含浸循环系统。

背景技术

目前市场上的铸件、粉末冶金件都存在多孔性的问题,其产品会产生渗漏或表面处理质量问题,造成产品质量不合格。含浸就是使用双关能性的液体物质,将产品浸入液体内,使液体进入微孔,然后加热使液体变成坚实的固体,而由于现使用的银浆内银粉颗粒大,容易造成沉淀,需要在含浸过程中不断搅拌使银浆处于流动状态,防止沉淀发生,现有的设备是使用搅拌干左右摆动来实现搅拌功能,对银浆搅拌不充分,银浆内银粉沉淀率很高,造成成本上的浪费。

发明内容

为了克服上述缺陷,本实用新型提供了一种银含浸循环系统。

本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是:一种银含浸循环系统,包括银浆回流循环管道,所述银浆回流循环管道右侧上方设有马达,所述马达下方通过叶轮支杆连接有叶轮,所述叶轮插入银浆回流循环管道内,所述银浆回流循环管道上方设有银浆输入管,所述银浆回流循环管道左侧上方设有含浸槽。

进一步,为了使银浆依附到产品上,所述含浸槽上设有圆形孔洞。

更进一步,为了使银浆更均匀、更迅速的依附到产品上,所述圆形孔洞呈阵列状分布在含浸槽上。

本实用新型的有益效果是:当产品需要含浸时,将产品放入含浸槽内,从银浆输入管向银浆回流循环管道内输入银浆,同时启动马达使马达开始转动,通过叶轮支杆带动叶轮开始旋转,通过叶轮转动使银浆形成涡流上涌产生水压,使银浆在银浆回流循环管道内循环流动,当银浆通过含浸槽时,银浆从含浸槽上的圆形孔洞进入含浸槽对产品进行含浸,由于圆形孔洞呈阵列状分布在含浸槽上,使产品含浸更迅速、更均匀,由于银浆整体循环流动,使银粉沉淀率降到最低,保证了产品的含浸质量,同时减小了成本浪费。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是含浸槽的仰视图;

图3是含浸槽的左视图。

图中:1、银浆回流循环管道   2、马达  3、叶轮支杆  4、叶轮  5、银浆输入管  6、含浸槽  7、圆形孔洞。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施方式对本实用新型进行详细描述:

如图1-3所述一种银含浸循环系统,包括银浆回流循环管道1,所述银浆回流循环管道1右侧上方设有马达2,所述马达2下方通过叶轮支杆3连接有叶轮4,所述叶轮4插入银浆回流循环管道1内,所述银浆回流循环管道1上方设有银浆输入管5,所述银浆回流循环管道1左侧上方设有含浸槽6,所述的含浸槽6上设有圆形孔洞7,所述的圆形孔洞7呈阵列状分布在含浸槽6上。

具体操作是当产品需要含浸时,将产品放入含浸槽6内,从银浆输入管5向银浆回流循环管道1内输入银浆,同时启动马达2使马达2开始转动,通过叶轮支杆3带动叶轮4开始旋转,通过叶轮4转动使银浆形成涡流上涌产生水压,使银浆在银浆回流循环管道1内循环流动,当银浆通过含浸槽6时,银浆从含浸槽6上的圆形孔洞7进入含浸槽6对产品进行含浸,由于圆形孔洞7呈阵列状分布在含浸槽6上,使产品含浸更迅速、更均匀,由于银浆整体循环流动,使银粉沉淀率降到最低,保证了产品的含浸质量,同时减小了成本浪费。

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