[实用新型]人工气道气囊压力连续监测控制仪有效
申请号: | 201220191762.0 | 申请日: | 2012-04-28 |
公开(公告)号: | CN202569120U | 公开(公告)日: | 2012-12-05 |
发明(设计)人: | 陆银春;姜东辉;张燕 | 申请(专利权)人: | 无锡市第二人民医院 |
主分类号: | A61M16/04 | 分类号: | A61M16/04;A61B5/03 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 殷红梅 |
地址: | 214001 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 人工 气囊 压力 连续 监测 控制 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种主要用于医疗中人工气道气囊压力连续监测控制的装置,为呼吸机相关性肺炎的防治提供重要治疗手段。
背景技术
机械通气是抢救和治疗各种原因所致的急慢性呼吸衰竭的有效方法,在临床危重病人的抢救中得到广泛的使用,但随之呼吸机相关性肺炎(ventilator associated pneumonia,VAP)这一并发症发生率急剧增长,国外报道,VAP发病率达9%~70%,病死率高达50%~69%。国内有研究调查,发病率为43.19%,病死率为51.6%,成为院内感染不可忽视的因素。
VAP发生的重要途径,来自于上呼吸道和胃腔内定植菌误吸。气管插管口咽部与下呼吸道的屏障直接受损,定植在上呼吸道病原菌通过误吸进入下呼吸道,机械通气患者病情严重或常有基础疾病,极易出现口腔细菌定植。有报道机械通气患者9%~70%可发生吸入性肺炎,其原因与胃内容物吸入有关。因此预防误吸成为防控VAP的重要手段。
依据VAP防控指南推荐,调整人工气道气囊压力、持续声门下吸引、抬高床头高度、监测胃内容物残余量,是防止误吸的集束化策略,被证明可降低VAP的发生率,指南推荐理想的气囊压力为25~30cmH2O,达到封闭气道,同时避免气道黏膜缺血性损伤的作用,而气囊压力的保证成为临床的难题,指南建议每日进行三次监测和调整,但有研究表明,每日三次进行气囊测压前的压力测定值仍然维持在25~30cmH2O内者仅为36.7%,60.2%的病人压力低于25cmH2O,发生误吸的风险明显增加,3.1%的病人压力高于30cmH2O,容易发生气道压力损伤,而增加更多的临床人工监测频率很难实现。
这些问题直接导致患者安全问题,因此,需要一种压力控制装置,实现自动充气、放气、确保其压力在可靠范围。
事实上目前市场上有几种压力控制装置,一种是推注式的机械充气装置,一种是皮球按的充气装置,它们都带有一个压力表,该装置优点是:实现了手动压力控制,缺点是需要人工充放气,没有做好智能化的压力控制,而且不能进行连续的监测和自动调节。在已有技术中,目前还没有智能化自动控制压力的气囊压力控制装置。
发明内容
本实用新型的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种压力控制可靠、使用方便的人工气道气囊压力连续监测控制仪。
按照本实用新型提供的技术方案,所述人工气道气囊压力连续监测控制仪,在手持手柄上固定有气道气囊压力控制仪壳体,在气道气囊压力控制仪壳体上设有电源开关、液晶显示器、充气操作按键、压力设置按键、增加气压按键与减少气压按键,在气道气囊压力控制仪壳体内底部位置设有控制电路板,在控制电路板上设有气泵、气管连接座、三通、第一硅胶管、第二硅胶管、第三硅胶管、第四硅胶管与第五硅胶管,在控制电路板上通过电路连接有电磁阀、压力传感器、单片机系统与电源模块,电源模块通过电路与电源开关连接,所述气管连接座的接头通过第二硅胶管连接三通,电磁阀通过第一硅胶管连接三通,气泵通过第三硅胶管连接三通,压力传感器通过第四硅胶管连接气压稳定腔,气压稳定腔上设有充气连接头,在充气连接头上设有第五硅胶管,第五硅胶管的另一端接在气管连接座上。
所述气压稳定腔的下段位于手持手柄内,气压稳定腔的上段位于气道气囊压力控制仪壳体内。
本实用新型在充气过程中的压力控制更可靠,使用更方便。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图。
图2是本实用新型中气道气囊压力控制仪壳体外表面的按键布置图。
图3是图2的左视图。
图4是本实用新型的原理框图。
具体实施方式
下面结合具体附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1、2与3所示,本实用新型主要由气泵1、电磁阀2、压力传感器3、单片机系统4、气管连接座5、第一硅胶管6、电池盒7、电源开关8、手持手柄9、气压稳定腔10、第二硅胶管11、三通12、第三硅胶管13、第四硅胶管14与第五硅胶管15、充气连接头16、控制电路板17、气道气囊压力控制仪壳体18、液晶显示器19、充气操作按键20、压力设置按键21、增加气压按键22与减少气压按键23等部件构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡市第二人民医院,未经无锡市第二人民医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201220191762.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种硫化促进剂CZ生产工艺
- 下一篇:一种高发光性能ZnO纳米颗粒的制备方法