[实用新型]一种立式横磁场处理炉有效
| 申请号： | 201220193305.5 | 申请日： | 2012-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN202626238U | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 王慕禹 | 申请（专利权）人： | 北京冶科电子器材有限公司;北京冶科磁性材料有限公司 |
| 主分类号： | C21D1/04 | 分类号： | C21D1/04;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 101309 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 立式 磁场 处理 | ||
【权利要求书】：
1.一种立式横磁场处理炉，其特征是：包括立式的炉体和有效工作区，所述炉体外壁缠有通电的磁场线圈，所述有效工作区位于炉体的内部。
2.根据权利要求1所述的立式横磁场处理炉，其特征是：所述有效工作区在炉体内位于磁场线圈的几何中心。
3.根据权利要求2所述的立式横磁场处理炉，其特征是：在所述磁场线圈和炉体外壁之间还设有发热体。
4.根据权利要求3所述的立式横磁场处理炉，其特征是：在所述发热体和炉体外壁之间还设有导热绝缘层。
5.根据权利要求3所述的立式横磁场处理炉，其特征是：所述磁场线圈和发热体之间还保温绝缘层。
6.根据权利要求1-5任一项所述的立式横磁场处理炉，其特征是：所述磁场线圈为可通水的无氧铜管。
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