[实用新型]单面研磨抛光机用冷却装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及冷却装置领域，特别涉及一种单面研磨抛光机用冷却装置。

背景技术

加工蓝宝石晶片或硅片的抛光制程，一般包括腐蚀、光亮和过腐蚀三个阶段，随着温度不断升高，将使得抛光过程比较难控制，更难利用时间来控制抛光晶片处于光亮阶段，很容易过腐蚀，造成蓝宝石晶片或硅片损坏甚至报废。

蓝宝石晶片或硅片进行抛光制程中，一般对抛光盘的温度控制要求在25℃左右为佳，温度若控制过高时，容易对抛光蓝宝石晶片或硅片产生过腐蚀现象，影响加工晶片表面质量和加工精度。所以，在抛光制程中为了减小温度对加工晶片的影响，目前有多种方案来控制抛光盘的温度。

为了减小温度对加工晶片的影响，现在在抛光过程中有通过以下几种方法来控制抛光盘的温度：

1)控制加工环境温度；

此种控制方式，冷却效果不明显，而且成本较高，目前已被其他冷却方式所代替。

2)对抛光液进行冷却；

通过对抛光或研磨液冷却来控制加工工件的温度，此方案冷却不明显，并且跟抛光液流量、浓度、加工压力等关系较大，冷却的温度不能控制在恒温状态，同样对温度控制不太好。

3)对加工盘面进行冷却；

此方案冷却温度在可控范围内，比前面两种方案冷却效果都要好，是目前应用最广泛的冷却方式。但是此种方案需要采用旋转接头对盘面冷却；旋转接头安装简单，但容易损坏，需要经常进行维护。螺纹接口的旋转接头跟盘面旋转方向相关，会影响采购时因螺纹旋向出现订货错误等。

因此，如何避免采用旋转接头带来的一些缺陷，使得设备便于维护，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种单面研磨抛光机用冷却装置，以解决现有技术中实现对抛光盘冷却的装置存在的缺陷。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种单面研磨抛光机用冷却装置，用于可转动地安装至单面研磨抛光机的支撑柱上，包括：

中心轴，其具有通孔，且两端密封处理，另一端设有用于与单面研磨抛光机的抛光盘对应的圆盘，所述圆盘上开设有回水口和与所述通孔连通的出水通道；

可相对转动地套设于所述中心轴上的旋转水套，所述旋转水套上设有冷却水出水口和与所述通孔连通的冷却水进水口；

一端与所述回水口连通，另一端与所述冷却水出水口连通的中心水管。

优选地，在上述冷却装置中，所述回水口布置于所述圆盘的中心；

所述出水通道的出水接口布置于所述回水口的外侧。

优选地，在上述冷却装置中，所述出水接口为多个，且以所述回水口为中心，均匀布置。

优选地，在上述冷却装置中，所述旋转水套通过轴承安装至所述中心轴上。

优选地，在上述冷却装置中，所述旋转水套通过自润轴承安装至所述中心轴上。

优选地，在上述冷却装置中，所述旋转水套和所述中心轴之间设有密封件。

优选地，在上述冷却装置中，所述中心水管布置于所述通孔内。

优选地，在上述冷却装置中，所述中心轴的通孔与所述中心轴同轴布置。

优选地，在上述冷却装置中，所述圆盘与所述中心轴为一体式结构。

优选地，在上述冷却装置中，所述中心轴的一端通过焊接端盖实现密封。

从上述的技术方案可以看出，本实用新型实施例提供的单面研磨抛光机用冷却装置，工作时，冷却水从冷却水进水口流入旋转水套，通过旋转水套流入中心轴，通过中心轴上的通孔流到出水通道，通过出水通道将冷却水通到抛光盘面上，被喷出的冷却水，由开设在圆盘上的回水口，流入中心水管，冷却水流到旋转水套后，从冷却水出水口流出，完成整个循环过程。本实用新型通过将旋转水套可相对转动地设置于中心轴上，因此在中心轴旋转过程中，并不会带动旋转水套跟随转动，即旋转水套系静止的。与现有技术中的旋转接头相比，本实用新型不会因外购标准件规格限制，不能对中心轴进行修改。同时，不会因外购标准件质量问题对后期因标准件维修影响生产，具有使用及维护成本低，安装冷却装置简单，维护方便等优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的单面研磨抛光机用冷却装置的结构示意图；