[实用新型]一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置有效
| 申请号： | 201220201172.1 | 申请日： | 2012-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN202595260U | 公开（公告）日： | 2012-12-12 |
| 发明（设计）人： | 翟宇宁;李毅;刘志斌;宋光耀 | 申请（专利权）人： | 深圳市创益科技发展有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳市毅颖专利商标事务所 44233 | 代理人： | 张艺影;李奕晖 |
| 地址： | 518029 广东省深圳市福田区深南大道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 连续 磁控溅射 镀膜 阴极 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，包括真空室及阴极靶，该阴极靶的靶托上装有靶材、水冷背板，其特征在于所述阴极靶上装有多套磁体，每套磁体均由外环电磁体和中间电磁体构成，该电磁体与直流电源连接。
2.根据权利要求1所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述阴极靶的靶托上设有磁轭，该磁轭上装有外环电磁体和中间电磁体。
3.根据权利要求2所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述外环电磁体和中间电磁体均缠绕有励磁线圈。
4.根据权利要求3所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述外环电磁体和中间电磁体的励磁线圈分别接入反向的直流电源。
5.根据权利要求3所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述外环电磁体和中间电磁体的励磁线圈串接在同一直流电源上。
6.根据权利要求3所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述外环电磁体和中间电磁体的励磁线圈的匝数相同，外环电磁体和中间电磁体端面的磁通量相等。
7.根据权利要求3所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述外环电磁体和中间电磁体的励磁线圈的匝数不同，外环电磁体和中间电磁体端面的磁通量相等。
8.根据权利要求1所述的用于连续磁控溅射镀膜的阴极装置，其特征在于所述阴极靶为平面靶或旋转靶。
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