[实用新型]带有研磨液供应功能的研磨头及研磨装置有效
申请号: | 201220208336.3 | 申请日: | 2012-05-09 |
公开(公告)号: | CN202592202U | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 唐强;李佩 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B37/11 | 分类号: | B24B37/11;B24B37/02;B24B57/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 研磨 供应 功能 装置 | ||
1.一种带有研磨液供应功能的研磨头,包括研磨头本体、驱动轴以及限位环,所述驱动轴与所述研磨头本体固定连接,所述限位环设置于所述研磨头本体的下方四周,其特征在于,还包括研磨液供应管和至少两个喷口,所述至少两个喷口均匀设置于所述限位环的内侧下方,所述驱动轴沿轴向设有供所述研磨液供应管穿越的通孔,所述研磨头本体和所述限位环内设有用于连接所述研磨液供应管及所述至少两个喷口的研磨液管道。
2.根据权利要求1所述的带有研磨液供应功能的研磨头,其特征在于,所述喷口的数量是两个,相对设置于所述限位环的内侧下方。
3.根据权利要求1所述的带有研磨液供应功能的研磨头,其特征在于,所述喷口的数量是三个至五个,且均匀设置于所述限位环的内侧下方。
4.根据权利要求1所述的带有研磨液供应功能的研磨头,其特征在于,在所述研磨头本体的下方设有用于吸附晶圆的吸附膜,所述吸附膜位于所述限位环的内侧。
5.根据权利要求1所述的带有研磨液供应功能的研磨头,其特征在于,所述驱动轴连接于所述研磨头本体的中部。
6.一种研磨装置,包括研磨头、研磨平台与研磨垫,所述研磨垫铺设于所述研磨平台上,所述研磨头设置于所述研磨垫上,其特征在于,所述研磨头采用如权利要求1~5中任意一项所述的带有研磨液供应功能的研磨头。
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