[实用新型]具有多晶硅掺杂区域的背面接触太阳能电池结构有效
申请号: | 201220217646.1 | 申请日: | 2009-04-29 |
公开(公告)号: | CN202930394U | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 丹尼斯·德塞斯特;彼得·约翰·卡曾斯;戴维·D·史密斯 | 申请(专利权)人: | 太阳能公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/072 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 多晶 掺杂 区域 背面 接触 太阳能电池 结构 | ||
1.一种太阳能电池结构,其特征在于包括:
硅衬底,其具有在正常工作期间面向太阳的正面和与正面相对的背面;
P型掺杂区域和N型掺杂区域;
沟槽结构,其将P型掺杂区域和N型掺杂区域物理分开;以及
沟槽中断,其断开沟槽结构的连续性并在P型掺杂区域和N型掺杂区域之间形成对接结。
2.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:
第一电介质层,其处于衬底上方以及P型掺杂区域下方。
3.如权利要求2所述的太阳能电池结构,进一步包括:
第二电介质层,其处于P型掺杂区域上方。
4.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:
沟槽下的衬底中的扩散钝化区域。
5.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:与P型掺杂区域和N型掺杂区域电耦合的叉指型金属接触指。
6.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:
形成在沟槽中的沟槽电介质。
7.如权利要求1所述的太阳能电池结构,其中P型掺杂区域和N掺杂区域包括多晶硅。
8.一种太阳能电池结构,其特征在于包括:
在硅衬底的背面上形成的P型掺杂区域和N型掺杂区域;
电介质层,其位于P型掺杂区域与硅衬底之间以及N型掺杂区域与硅衬底之间;以及
中断的沟槽结构,其将P型掺杂区域和N型掺杂区域分开,中断的沟槽结构包括第一沟槽中断,以允许P型掺杂区域和N型掺杂区域通过该第一沟槽中断耦接。
9.如权利要求8所述的太阳能电池结构,其中,中断的沟槽结构进一步包括第二沟槽中断,以允许P型掺杂区域和N型掺杂区域通过该第二沟槽中断耦接。
10.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:
沟槽下的衬底中的扩散钝化区域。
11.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:
与P型掺杂区域和N型掺杂区域电耦合的叉指型金属接触指。
12.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:
形成在中断的沟槽结构中的沟槽电介质。
13.如权利要求8所述的太阳能电池结构,其中P型掺杂区域和N掺杂区域包括多晶硅。
14.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括在中断的沟槽结构表面上形成的钝化层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的