[实用新型]具有多晶硅掺杂区域的背面接触太阳能电池结构有效

专利信息
申请号: 201220217646.1 申请日: 2009-04-29
公开(公告)号: CN202930394U 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 丹尼斯·德塞斯特;彼得·约翰·卡曾斯;戴维·D·史密斯 申请(专利权)人: 太阳能公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/072
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 陈源;张天舒
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 具有 多晶 掺杂 区域 背面 接触 太阳能电池 结构
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池结构,其特征在于包括:

硅衬底,其具有在正常工作期间面向太阳的正面和与正面相对的背面;

P型掺杂区域和N型掺杂区域;

沟槽结构,其将P型掺杂区域和N型掺杂区域物理分开;以及

沟槽中断,其断开沟槽结构的连续性并在P型掺杂区域和N型掺杂区域之间形成对接结。

2.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:

第一电介质层,其处于衬底上方以及P型掺杂区域下方。

3.如权利要求2所述的太阳能电池结构,进一步包括:

第二电介质层,其处于P型掺杂区域上方。

4.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:

沟槽下的衬底中的扩散钝化区域。

5.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:与P型掺杂区域和N型掺杂区域电耦合的叉指型金属接触指。

6.如权利要求1所述的太阳能电池结构,进一步包括:

形成在沟槽中的沟槽电介质。

7.如权利要求1所述的太阳能电池结构,其中P型掺杂区域和N掺杂区域包括多晶硅。

8.一种太阳能电池结构,其特征在于包括:

在硅衬底的背面上形成的P型掺杂区域和N型掺杂区域;

电介质层,其位于P型掺杂区域与硅衬底之间以及N型掺杂区域与硅衬底之间;以及

中断的沟槽结构,其将P型掺杂区域和N型掺杂区域分开,中断的沟槽结构包括第一沟槽中断,以允许P型掺杂区域和N型掺杂区域通过该第一沟槽中断耦接。

9.如权利要求8所述的太阳能电池结构,其中,中断的沟槽结构进一步包括第二沟槽中断,以允许P型掺杂区域和N型掺杂区域通过该第二沟槽中断耦接。

10.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:

沟槽下的衬底中的扩散钝化区域。

11.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:

与P型掺杂区域和N型掺杂区域电耦合的叉指型金属接触指。

12.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括:

形成在中断的沟槽结构中的沟槽电介质。

13.如权利要求8所述的太阳能电池结构,其中P型掺杂区域和N掺杂区域包括多晶硅。

14.如权利要求8所述的太阳能电池结构,进一步包括在中断的沟槽结构表面上形成的钝化层。

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