[实用新型]扩散结构以及应用该扩散结构的具有光源的装置

权利要求书

1.一种具有光源的装置，其特征在于，包括：

用以输出多个光束的至少一发光二极管单元；以及

扩散结构，设置于该些光束的传输路径上，具有光栅层以及散斑层，且该些光束于依序经过该光栅层以及该散斑层后向外输出。

2.如权利要求1所述的具有光源的装置，其特征在于，该光栅层位于该至少一发光二极管单元与该散斑层之间。

3.如权利要求1所述的具有光源的装置，其特征在于，该光栅层以及该散斑层分别形成于该扩散结构的第一表面以及第二表面。

4.如权利要求3所述的具有光源的装置，其特征在于，该光栅层包括多个光栅，该多个光栅分布于部分或全部该第一表面，且任二该光栅具有相同的光栅参数组或者任二该光栅具有不相同的光栅参数组。

5.如权利要求4所述的具有光源的装置，其特征在于，该光栅参数组包括光栅深度、光栅节距、光栅工作周期以及光栅方位中的至少一者；经过该散斑层后向外输出的该些光束共同形成一光型，且该光型是至少依据该些光栅的该些光栅参数组及/或该些光栅的分布状态而被形成。

6.如权利要求3所述的具有光源的装置，其特征在于，该散斑层包括至少一功能区域，该至少一功能区域不含任一散斑；抑或是，该散斑层分布于部分或全部该第二表面，且该散斑层至少包括多个散斑，且该些散斑连续性分布于该第二表面或者该些散斑间断性分布于该第二表面，其中，该些散斑中的任二散斑具有相同的强度或者该些散斑中的任二散斑具有不同的强度。

7.如权利要求1所述的具有光源的装置，其特征在于，该光栅层是透过全像微影技术、电子蚀刻技术、激光束写入技术、相位光罩微影技术、微成形技术以及全像干涉技术中的任一者而形成于该扩散结构上。

8.如权利要求1所述的具有光源的装置，其特征在于，为直下式照明装置。

9.如权利要求8所述的具有光源的装置，其特征在于，还包括侧光源处理模块以及导光模块，且该侧光源处理模块的一表面上形成有至少一锯齿状结构； 其中，该至少一锯齿状结构上的一表面与垂直于该侧光源处理模块的另一表面的一法线间的夹角呈一角度，以使投射至该至少一锯齿状结构上的至少一光束于其上产生全反射，并因应该角度而朝一相对应的方向行进，进而于穿经该侧光源处理模块的该另一表面后投射至该扩散结构；该导光模块设置于该至少一发光二极管单元与该侧光源处理模块之间或者该至少一发光二极管单元设置于该侧光源处理模块与该导光模块之间，且该导光模块用以使该至少一发光二极管单元所输出的该些光束中的至少一者朝该至少一锯齿状结构投射。

10.如权利要求9所述的具有光源的装置，其特征在于，该角度介于40度至45度之间。

11.如权利要求1所述的具有光源的装置，其特征在于，该扩散结构还包括影像片，且该散斑层位于该光栅层与该影像片之间，以使自该光源所输出的多个光束于依序经过该光栅层、该散斑层以及该影像片后向外输出。

12.一种扩散结构，用以均匀扩散所接收的多个光束并予以向外输出，其特征在于，该扩散结构包括：

第一表面，其上形成有散斑层；以及

第二表面，相对于该第一表面，且该第二表面形成有光栅层；

其中，该光栅层设置于一光源与该散斑层之间，以使自该光源所输出的多个光束于依序经过该光栅层以及该散斑层后向外输出。

13.如权利要求12所述的扩散结构，其特征在于，该光栅层包括多个光栅，该多个光栅分布于部分或全部该第二表面，且任二该光栅具有相同的光栅参数组或者任二该光栅具有不相同的光栅参数组。

14.如权利要求13所述的扩散结构，其特征在于，该光栅参数组包括光栅深度、光栅节距、光栅工作周期以及光栅方位中的至少一者；经过该散斑层后向外输出的该些光束共同形成一光型，且该光型是依据该些光栅的该些光栅参数组及该些光栅的分布状态两者至少之一而被形成。

15.如权利要求12所述的扩散结构，其特征在于，该光栅层是透过全像微影技术、电子蚀刻技术、激光束写入技术、相位光罩微影技术、微成形技术以及全像干涉技术中的任一者而形成于该第二表面上。