[实用新型]一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃有效

专利信息
申请号: 201220228549.2 申请日: 2012-05-21
公开(公告)号: CN202736509U 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 李萍;雷万军;胡志刚;乔晓岚;宋霄薇;李光大;赵鹏;杨超 申请(专利权)人: 河南科技大学
主分类号: G21F1/12 分类号: G21F1/12;C03C17/36
代理公司: 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人: 罗民健
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 增强 防护 光子 晶体 玻璃
【说明书】:

技术领域

发明涉及一维光子晶体技术领域,具体涉及一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃及其制作方法。

背景技术

在X线医学影像、X线放射治疗领域经常会用到透明防护视窗,国内外玻璃工作者、从事防护的人员极力寻求密度大的材料作为X线防护材料,在玻璃成分中引入铅、钡、铋等重金属元素,重金属玻璃已被广泛应用到防辐射领域。曹志峰在《X射线防护玻璃的结构效应》中指出,随铅含量增加, 密度增加,重金属玻璃防X线辐射能力的提高受到玻璃结构效应的限制。

发明内容

本发明为解决上述技术问题,提供一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃,调整参数使X线波长在设计的复合一维光子晶体的禁带范围内,大大提高了重金属X线防护玻璃的防辐射能力。

本发明为解决上述技术问题所采用的技术方案是:

一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃,由重金属X线防护玻璃层和光子晶体层组成,光子晶体层由14层Ge介质层和14层BaF2介质层相互交替叠加构成                                                型复合结构,其中m=6,n=8,(Ge BaF2m表示m层Ge和m层BaF2交替叠加构成的复合介质层,其中Ge介质层的厚度为248.45nm,BaF2介质层的厚度为741.38nm,该复合介质层设置在光子晶体层的内侧,并与重金属X线防护玻璃层连接;(Ge BaF2n表示n层Ge和n层BaF2交替叠加构成的复合介质层,其中Ge介质层的厚度为388.16nm,BaF2介质层的厚度为1068.48nm,该复合介质层设置在光子晶体层的外侧。

本发明的有益效果是:

1、该复合光子晶体结构对X线波长范围内最高反射率达到100%,平均反射率95%以上,大大降低了对重金属X线防护玻璃防辐射能力的要求。

2、在对X线吸收系数很低的低成本重金属X线防护玻璃上镀光子晶体膜便可以达到完全吸收X线的防护效果,降低重金属X线防护玻璃要求。

附图说明

图1为本发明的结构示意图;

图2为本发明的一维光子晶体周期结构;

图3 为本发明的复合光子晶体X线反射率随波长的变化曲线;

图中:1、重金属X线防护玻璃层,2、光子晶体层。

具体实施方法

如图所示,一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃,由重金属X线防护玻璃层1和光子晶体层2组成,光子晶体层2由14层Ge介质层和14层BaF2介质层相互交替叠加构成型复合结构,其中m=6,n=8,(Ge BaF2m表示m层Ge和m层BaF2交替叠加构成的复合介质层,其中Ge介质层的厚度为248.45nm,BaF2介质层的厚度为741.38nm,该复合介质层设置在光子晶体层2的内侧,并与重金属X线防护玻璃层1连接;(Ge BaF2n表示n层Ge和n层BaF2交替叠加构成的复合介质层,其中Ge介质层的厚度为388.16nm,BaF2介质层的厚度为1068.48nm,该复合介质层设置在光子晶体层2的外侧。

一种增强X线防护的光子晶体防护玻璃的制作方法,步骤一、取一个f36mm的平板形重金属X线防护玻璃,作为基板,将基板双面抛光,立边抛光,四边有工艺倒角,备用;

步骤二、将加工好的基板表面进行清洁化处理,采用酸性清洗液和去离子水分别清洗基板,然后将基板置于热板上烘干,温度为65°,时间10分钟;

步骤三、将基板放入真空镀膜机,在其一个表面上进行介质材料锗的镀膜,镀膜厚度为248.45nm,镀膜后干燥冷却30分钟,然后在基板镀有锗镀膜层的表面进行介质材料氟化钡的镀膜,镀膜厚度为741.38nm,镀膜后干燥冷却30分钟;

步骤四、按照步骤三的方法交替进行锗和氟化钡镀膜,直至镀好m层锗镀膜层和m层氟化钡镀膜层,其中m=6,在基板上形成结构为(Ge BaF2m的光子晶体复合镀膜层;

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